基本信息:
- 专利标题： 具有離散突出物於其上之均質體的拋光墊
- 专利标题（英）：Polishing pad with homogeneous body having discrete protrusions thereon
- 专利标题（中）：具有离散突出物于其上之均质体的抛光垫
- 申请号：TW104123294 申请日：2012-05-22
- 公开(公告)号：TW201538274A 公开(公告)日：2015-10-16
- 发明人： 巴傑 拉吉伏 , BAJAJ, RAJEEV , 黃平 , HUANG, PING , 柯布理奇 羅伯特 , KERPRICH, ROBERT , 亞歷森 威廉C , ALLISON, WILLIAM C. , 法蘭索 理查 , FRENTZEL, RICHARD , 史考特 黛安 , SCOTT, DIANE
- 申请人： 奈平科技股份有限公司 , NEXPLANAR CORPORATION
- 专利权人： 奈平科技股份有限公司,NEXPLANAR CORPORATION
- 当前专利权人： 奈平科技股份有限公司,NEXPLANAR CORPORATION
- 代理人： 陳長文
- 优先权： 13/113,655 20110523
- 主分类号： B24B37/24
- IPC分类号： B24B37/24 ; B24B37/26 ; H01L21/304
摘要：
描述具有離散突出物於其上之均質體的拋光墊。在一項實例中，用於拋光基板之拋光墊包括具有拋光面及背面之均質體。均質體由具有第一硬度之材料構成。複數個離散突出物安置於均質體之拋光面上且與均質體之拋光面共價鍵結。複數個離散突出物由具有不同於第一硬度之第二硬度的材料構成。亦描述製造具有離散突出物於其上之均質體的拋光墊之方法。
摘要（中）：
描述具有离散突出物于其上之均质体的抛光垫。在一项实例中，用于抛光基板之抛光垫包括具有抛光面及背面之均质体。均质体由具有第一硬度之材料构成。复数个离散突出物安置于均质体之抛光面上且与均质体之抛光面共价键结。复数个离散突出物由具有不同于第一硬度之第二硬度的材料构成。亦描述制造具有离散突出物于其上之均质体的抛光垫之方法。
摘要（英）：
Polishing pads with homogeneous bodies having discrete protrusions thereon are described. In an example, a polishing pad for polishing a substrate includes a homogeneous body having a polishing side and a back side. The homogeneous body is composed of a material having a first hardness. A plurality of discrete protrusions is disposed on and covalently bonded with the polishing side of the homogeneous body. The plurality of discrete protrusions is composed of a material having a second hardness different from the first hardness. Methods of fabricating polishing pads with homogeneous bodies having discrete protrusions thereon are also described.
公开/授权文献:
- TWI630067B 具有離散突出物於其上之均質體的拋光墊及其製造方法 公开/授权日：2018-07-21
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B24 | 磨削；抛光 |
| ----B24B | 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 |
| ------B24B37/00 | 研磨机床或装置，即需要在相对软但仍为刚性的研具和被研磨表面之间加入粉末状磨料；及其附件 |
| --------B24B37/005 | .研磨机床或装置的控制装置 |
| ----------B24B37/12 | ..用于加工平面的研磨片 |
| ------------B24B37/24 | ...以垫的材料成分或特性为特征 |