基本信息:
- 专利标题： 以含有吡衍生物之鹼性安定性催化劑無電鍍金屬化介電質
- 专利标题（英）：Electroless metallization of dielectrics with alkaline stable pyrazine derivative containing catalysts
- 专利标题（中）：以含有吡衍生物之碱性安定性催化剂无电镀金属化介电质
- 申请号：TW103130539 申请日：2014-09-04
- 公开(公告)号：TW201527590A 公开(公告)日：2015-07-16
- 发明人： 劉風 , LIU, FENG , 齊尼克 瑪莉亞 安娜 , RZEZNIK, MARIA ANNA
- 申请人： 羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 专利权人： 羅門哈斯電子材料有限公司,ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 当前专利权人： 羅門哈斯電子材料有限公司,ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 代理人： 洪武雄; 陳昭誠
- 优先权： 61/873,391 20130904
- 主分类号： C23C18/18
- IPC分类号： C23C18/18 ; C23C18/20 ; C23C18/30 ; C23C18/31 ; B01J31/02 ; H05K3/42
摘要：
本發明關於環上含有一個或多個供電子基之吡衍生物，其係用於作為水性鹼性環境中之催化型金屬錯合劑，以催化包覆金屬及未包覆金屬之基板上之無電金屬鍍覆。該催化劑為單體且不含錫及抗氧化劑。
摘要（中）：
本发明关于环上含有一个或多个供电子基之吡衍生物，其系用于作为水性碱性环境中之催化型金属错合剂，以催化包覆金属及未包覆金属之基板上之无电金属镀覆。该催化剂为单体且不含锡及抗氧化剂。
摘要（英）：
Pyrazine derivatives which contain one or more electron donating groups on the ring are used as catalytic metal complexing agents in aqueous alkaline environments to catalyze electroless metal plating on metal clad and un-clad substrates. The catalysts are monomers and free of tin and antioxidants.
公开/授权文献:
- TWI565830B 以含有吡衍生物之鹼性安定性催化劑無電鍍金屬化介電質 公开/授权日：2017-01-11