基本信息:
- 专利标题： 拋光墊及其製造方法
- 专利标题（英）：Polishing pad and method for making the same
- 专利标题（中）：抛光垫及其制造方法
- 申请号：TW102135771 申请日：2013-10-03
- 公开(公告)号：TW201513970A 公开(公告)日：2015-04-16
- 发明人： 馮崇智 , FENG, CHUNG CHIH , 姚伊蓬 , YAO, I PENG , 吳文傑 , WU, WEN CHIEH , 洪永璋 , HUNG, YUNG CHANG
- 申请人： 三芳化學工業股份有限公司 , SAN FANG CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
- 申请人地址： 高雄市
- 专利权人： 三芳化學工業股份有限公司,SAN FANG CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
- 当前专利权人： 三芳化學工業股份有限公司,SAN FANG CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 高雄市
- 代理人： 蔡東賢
- 主分类号： B24B37/24
- IPC分类号： B24B37/24 ; B32B5/08
摘要：
本發明係關於一種拋光墊及其製造方法。該拋光墊具有一研磨層，該研磨層包括複數條纖維及一本體。該等纖維之細度係為0.001丹尼至6丹尼。該本體係為一發泡體，且包覆該等纖維，該本體具有複數個第一孔洞及複數個第二孔洞，該等第一孔洞係彼此連通，該等第二孔洞係彼此獨立，該等第一孔洞之尺寸係大於該等第二孔洞之尺寸至少5倍，其中該研磨層之硬度係為30至90 Shore D，且壓縮率為1%至10%。
摘要（中）：
本发明系关于一种抛光垫及其制造方法。该抛光垫具有一研磨层，该研磨层包括复数条纤维及一本体。该等纤维之细度系为0.001丹尼至6丹尼。该本体系为一发泡体，且包覆该等纤维，该本体具有复数个第一孔洞及复数个第二孔洞，该等第一孔洞系彼此连通，该等第二孔洞系彼此独立，该等第一孔洞之尺寸系大于该等第二孔洞之尺寸至少5倍，其中该研磨层之硬度系为30至90 Shore D，且压缩率为1%至10%。
摘要（英）：
The present invention relates to a polishing pad and method for making the same. The polishing pad has a polishing layer. The polishing layer includes a plurality of fibers and a main body. The fineness of the fibers is 0.001 den to 6 den. The main body is a foam and covers the fibers. The main body has a plurality of first pores and a plurality of second pores, wherein the first pores are communicated with each other, and the second pores are independent from each other. The size of the first pore is greater than at least 5 times the size of the second pore. The hardness of the polishing layer is 30 to 90 shore D, and the compression ratio thereof is 1% to 10%.
公开/授权文献:
- TWI551396B 拋光墊及其製造方法 公开/授权日：2016-10-01
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B24 | 磨削；抛光 |
| ----B24B | 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 |
| ------B24B37/00 | 研磨机床或装置，即需要在相对软但仍为刚性的研具和被研磨表面之间加入粉末状磨料；及其附件 |
| --------B24B37/005 | .研磨机床或装置的控制装置 |
| ----------B24B37/12 | ..用于加工平面的研磨片 |
| ------------B24B37/24 | ...以垫的材料成分或特性为特征 |