基本信息:
- 专利标题： 熱處理裝置
- 专利标题（英）：Heat treatment apparatus
- 专利标题（中）：热处理设备
- 申请号：TW102139129 申请日：2013-10-29
- 公开(公告)号：TW201428224A 公开(公告)日：2014-07-16
- 发明人： 金子裕史 , KANEKO, HIROFUMI
- 申请人： 東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
- 专利权人： 東京威力科創股份有限公司,TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人： 東京威力科創股份有限公司,TOKYO ELECTRON LIMITED
- 代理人： 周良謀; 周良吉
- 优先权： 2012-240639 20121031
- 主分类号： F27D1/14
- IPC分类号： F27D1/14
摘要：
一種熱處理裝置，包含：圓筒狀之石英製反應管，其下方具有爐口並具有底凸緣；凸緣保持構件，用以保持該反應管之該底凸緣；以及蓋體，其具有金屬製蓋體，及由金屬製蓋體支持而密閉反應管的爐口之石英製蓋體；該石英製蓋體，係藉由支持環固定至該金屬製蓋體，該支持環抵接於凸緣保持構件的底面，在該石英製蓋體與該底凸緣之間形成間隙；在該底凸緣與該石英製蓋體之間的該間隙的半徑方向外側，設有密封元件。
摘要（中）：
一种热处理设备，包含：圆筒状之石英制反应管，其下方具有炉口并具有底凸缘；凸缘保持构件，用以保持该反应管之该底凸缘；以及盖体，其具有金属制盖体，及由金属制盖体支持而密闭反应管的炉口之石英制盖体；该石英制盖体，系借由支持环固定至该金属制盖体，该支持环抵接于凸缘保持构件的底面，在该石英制盖体与该底凸缘之间形成间隙；在该底凸缘与该石英制盖体之间的该间隙的半径方向外侧，设有密封组件。
摘要（英）：
Provided is a heat treatment apparatus, which includes: a cylindrical quartz reaction tube having a furnace opening and a bottom flange at a lower portion thereof; a flange holding part configured to hold the bottom flange of the reaction tube; and a lid including a metal lid and a quartz lid supported by the metal lid, the quartz lid being configured to close the furnace opening of the reaction tube. The quartz lid is fixed onto the metal lid by a support ring. The support ring is brought into contact with a bottom surface of the flange holding part so that a gap is defined between the quartz lid and the bottom flange. A sealing member is arranged outward from the gap in a radial direction.
公开/授权文献:
- TWI545299B 熱處理裝置 公开/授权日：2016-08-11
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| F | 机械工程；照明；加热；武器；爆破 |
| --F27 | 炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉 |
| ----F27D | 一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件 |
| ------F27D1/00 | 外壳；衬炉；壁；炉顶 |
| --------F27D1/14 | .炉衬支承构件 |