基本信息:
- 专利标题： 曝光裝置及元件製造方法
- 专利标题（英）：Immersion exposure apparatus and device manufacturing method with measuring device
- 专利标题（中）：曝光设备及组件制造方法
- 申请号：TW102131788 申请日：2005-06-09
- 公开(公告)号：TW201407299A 公开(公告)日：2014-02-16
- 发明人： 白石健一 , SHIRAISHI, KENICHI
- 申请人： 尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
- 专利权人： 尼康股份有限公司,NIKON CORPORATION
- 当前专利权人： 尼康股份有限公司,NIKON CORPORATION
- 代理人： 桂齊恆; 閻啟泰
- 优先权： 2004-171115 20040609
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03B27/52
摘要：
為提供一曝光裝置，根據液浸法而能高精度地進行曝光處理及測量處理。曝光裝置(EX)，係在投影光學系統(PL)的像面側形成液體(LQ)的液浸區域(AR2)，透過投影光學系統(PL)與液浸區域(AR2)的液體(LQ)而使基板(P)曝光者，其具備測量裝置(60)，用以測量液浸區域(AR2)形成用的液體(LQ)之性質及成分至少一方。
摘要（中）：
为提供一曝光设备，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光设备(EX)，系在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光者，其具备测量设备(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)之性质及成分至少一方。
摘要（英）：
An exposure apparatus is capable of accurately performing an exposure process and a measurement process based on a liquid immersion method. The exposure apparatus, which forms a liquid immersion area of a liquid on an image surface side of a projection optical system, and exposes a substrate via the projection optical system and the liquid of the immersion area, includes a measuring device which measures at least one of a property and composition of the liquid for forming the liquid immersion area.
公开/授权文献:
- TWI547767B 曝光裝置及元件製造方法 公开/授权日：2016-09-01