基本信息:
- 专利标题： 具有電漿輻射源的裝置和形成一輻射波束的方法及微影裝置
- 专利标题（英）：Apparatus with plasma radiation source and method of forming a beam of radiation and lithographic apparatus
- 专利标题（中）：具有等离子辐射源的设备和形成一辐射波束的方法及微影设备
- 申请号：TW102115507 申请日：2008-02-01
- 公开(公告)号：TW201351065A 公开(公告)日：2013-12-16
- 发明人： 可瑞森 法狄米爾 米哈囉維茲 , KRIVTSUN, VLADIMIR MIHAILOVITCH , 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 依法諾 法拉帝莫 維塔拉維屈 , IVANOV, VLADIMIR VITALEVICH , 可羅波 艾吉尼 迪米力菲奇 , KOROP, EVGENY DMITRIEVICH , 卡士李 康士坦汀 尼可拉威屈 , KOSHELEV, KONSTANTIN NIKOLAEVICH , 賽德尼克夫 悠里 維克特羅齊 , SIDELNIKOV, YURII VICTOROVITCH , 葉克雪夫 歐雷格 , YAKUSHEV, OLEG
- 申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
- 专利权人： ASML荷蘭公司,ASML NETHERLANDS B. V.
- 当前专利权人： ASML荷蘭公司,ASML NETHERLANDS B. V.
- 代理人： 陳長文
- 优先权： 11/705,822 20070214
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G21K3/00 ; H01L21/027
摘要：
本發明揭示一種用於形成一電磁輻射波束之裝置，其包括一電漿輻射源，及一具備大體上平行於自該電漿源之輻射之方向延伸之複數個薄箔的箔捕集器。一柵格安置於該電漿輻射源與該箔捕集器之間。一空間位於該柵格與該箔捕集器之間。該裝置亦包括一電位施加電路，該電位施加電路經建構及經配置以將一電位施加至該柵格，使得該柵格排斥由該電漿輻射源所發射之電子且在該柵格與該箔捕集器之間形成一正空間電荷，以將由該電漿輻射源所發射的離子偏轉至該箔捕集器。
摘要（中）：
本发明揭示一种用于形成一电磁辐射波束之设备，其包括一等离子辐射源，及一具备大体上平行于自该等离子源之辐射之方向延伸之复数个薄箔的箔捕集器。一栅格安置于该等离子辐射源与该箔捕集器之间。一空间位于该栅格与该箔捕集器之间。该设备亦包括一电位施加电路，该电位施加电路经建构及经配置以将一电位施加至该栅格，使得该栅格排斥由该等离子辐射源所发射之电子且在该栅格与该箔捕集器之间形成一正空间电荷，以将由该等离子辐射源所发射的离子偏转至该箔捕集器。
摘要（英）：
An apparatus for forming a beam of electromagnetic radiation includes a plasma radiation source, and a foil trap provided with a plurality of thin foils that extend substantially parallel to the direction of radiation from the plasma source. A grid is disposed between the plasma radiation source and the foil trap. A space is located between the grid and the foil trap. The apparatus also include an electrical potential application circuit that is constructed and arranged to apply an electrical potential to the grid so that the grid repels electrons emitted by the plasma radiation source and creates a positive space charge between the grid and the foil trap to deflect ions emitted by the plasma radiation source to the foil trap.