基本信息:
- 专利标题： 光源收集器元件、微影裝置及元件製造方法
- 专利标题（英）：Source-collector device, lithographic apparatus, and device manufacturing method
- 专利标题（中）：光源收集器组件、微影设备及组件制造方法
- 申请号：TW102100763 申请日：2013-01-09
- 公开(公告)号：TW201333542A 公开(公告)日：2013-08-16
- 发明人： 亞庫寧 安卓 米克哈洛維奇 , YAKUNIN, ANDREI MIKHAILOVICH , 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 莫斯 喬漢斯 哈博特 喬瑟菲那 , MOORS, JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA , 凡 沙特 珍 伯納德 波萊奇莫斯 , VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS , 微哈珍 馬提那斯 康納斯 瑪利亞 , VERHAGEN, MARTINUS CORNELIS MARIA , 佛利恩斯 歐勒夫 華德瑪 佛勒迪米爾 , FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR , 可瑞森 法狄米爾 米哈囉維茲 , KRIVTSUN, VLADIMIR MIHAILOVITCH , 史溫克斯 格爾達斯 哈柏特斯 彼佐斯 瑪利亞 , SWINKELS, GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA , 瑞潘 米歇爾 , RIEPEN, MICHEL , 史奇默 漢佐克斯 吉斯柏特斯 , SCHIMMEL, HENDRIKUS GIJSBERTUS , 梅德維得維 維爾契司拉維 , MEDVEDEV, VIACHESLAV
- 申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
- 专利权人： ASML荷蘭公司,ASML NETHERLANDS B. V.
- 当前专利权人： ASML荷蘭公司,ASML NETHERLANDS B. V.
- 代理人： 林嘉興
- 优先权： 61/587,965 20120118;61/595,981 20120207;61/672,076 20120716
- 主分类号： G02B5/08
- IPC分类号： G02B5/08 ; G03F7/20
摘要：
一種光源收集器元件，其經建構及配置以產生一輻射光束。該元件包括：一目標單元，其經建構及配置以呈現電漿形成材料之一目標表面；一雷射單元，其經建構及配置以產生一輻射光束，該輻射光束經引導至該目標表面上以便自該電漿形成材料形成一電漿；一污染物截留器，其經建構及配置以縮減由該電漿產生之微粒污染物之傳播；一輻射收集器，其包含複數個掠入射反射器，該輻射收集器經配置以收集由該電漿發射之輻射且自該輻射形成一光束；及一濾光器，其經建構及配置以衰減該光束之至少一波長範圍。
摘要（中）：
一种光源收集器组件，其经建构及配置以产生一辐射光束。该组件包括：一目标单元，其经建构及配置以呈现等离子形成材料之一目标表面；一激光单元，其经建构及配置以产生一辐射光束，该辐射光束经引导至该目标表面上以便自该等离子形成材料形成一等离子；一污染物截留器，其经建构及配置以缩减由该等离子产生之微粒污染物之传播；一辐射收集器，其包含复数个掠入射反射器，该辐射收集器经配置以收集由该等离子发射之辐射且自该辐射形成一光束；及一滤光器，其经建构及配置以衰减该光束之至少一波长范围。
摘要（英）：
A source-collector device is constructed and arranged to generate a radiation beam, The device includes a target unit constructed and arranged to present a target surface of plasma-forming material; a laser unit constructed and arranged to generate a beam of radiation directed onto the target surface so as to form a plasma from said plasma-forming material; a contaminant trap constructed and arranged to reduce propagation of particulate contaminants generated by the plasma; a radiation collector comprising a plurality of grazing-incidence reflectors arranged to collect radiation emitted by the plasma and form a beam therefrom; and a filter constructed and arranged to attenuate at least one wavelength range of the beam.
公开/授权文献:
- TWI596384B 光源收集器元件、微影裝置及元件製造方法 公开/授权日：2017-08-21