基本信息:
- 专利标题： 形成圖案之方法及採用該方法形成有圖案之殼體
- 专利标题（英）：Method of forming pattern and housing with pattern formed by the same
- 专利标题（中）：形成图案之方法及采用该方法形成有图案之壳体
- 申请号：TW100125399 申请日：2011-07-19
- 公开(公告)号：TW201306689A 公开(公告)日：2013-02-01
- 发明人： 周景瑜 , CHOU, CHING YU , 吳長錦 , WU, CHANG CHIN
- 申请人： 鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
- 申请人地址： 新北市
- 专利权人： 鴻海精密工業股份有限公司,HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
- 当前专利权人： 鴻海精密工業股份有限公司,HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 新北市
- 主分类号： H05K5/00
- IPC分类号： H05K5/00 ; H01L21/312 ; H01L21/32
摘要：
一種形成圖案之方法，其用於在曲面上形成圖案，其包括以下步驟：在曲面上形成光阻層；提供光罩，使所述光罩設置於所述曲面上方，且所述光罩上開設有透光孔；提供光源，並對形成於所述曲面之光阻層進行曝光；對經過曝光之光阻層進行顯影；對顯影後之光阻層進行清洗，以在所述曲面上形成所述圖案。還提供一種採用上述方法形成有圖案之殼體。
摘要（中）：
一种形成图案之方法，其用于在曲面上形成图案，其包括以下步骤：在曲面上形成光阻层；提供光罩，使所述光罩设置于所述曲面上方，且所述光罩上开设有透光孔；提供光源，并对形成于所述曲面之光阻层进行曝光；对经过曝光之光阻层进行显影；对显影后之光阻层进行清洗，以在所述曲面上形成所述图案。还提供一种采用上述方法形成有图案之壳体。
摘要（英）：
A method of forming pattern on a curved surface includes steps as follows: forming a photoresist layer on the curved surface; providing a mask placed on the curved surface, and defining a through hole on the mask; providing a light source disposed on the photoresist layer; developing the exposed photoresist layer; and cleaning the developed photoresist layer to form a pattern on the curved surface. A housing with a pattern formed by the above-described method is further provided.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
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| ----H05K | 印刷电路；电设备的外壳或结构零部件；电气元件组件的制造 |
| ------H05K5/00 | 用于电设备的机壳、箱柜或拉屉 |