基本信息:
- 专利标题： 雙燈泡燈頭控制方法 DUAL-BULB LAMPHEAD CONTROL METHODOLOGY
- 专利标题（英）：Dual-bulb lamphead control methodology
- 专利标题（中）：双灯泡灯头控制方法 DUAL-BULB LAMPHEAD CONTROL METHODOLOGY
- 申请号：TW100142074 申请日：2011-11-17
- 公开(公告)号：TW201230876A 公开(公告)日：2012-07-16
- 发明人： 楊燿宏 , 甘古德阿布希吉 , 巴魯札桑傑夫 , 馬汀奈利麥可 , 克利芙麗娜莉莉亞 , 諾瓦克湯瑪斯 , 羅莎亞凡利斯君卡洛斯 , 漢翠森史考特
- 申请人： 應用材料股份有限公司
- 申请人地址： APPLIED MATERIALS, INC. 美國 US
- 专利权人： 應用材料股份有限公司
- 当前专利权人： 應用材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： APPLIED MATERIALS, INC. 美國 US
- 代理人： 蔡坤財; 李世章
- 优先权： 美國 61/416,955 20101124 美國 13/011,687 20110121
- 主分类号： H05B
- IPC分类号： H05B
The present invention generally relates to methods of controlling UV lamp output to increase irradiance uniformity. The methods generally include determining a baseline irradiance within a chamber, determining the relative irradiance on a substrate corresponding to a first lamp and a second lamp, and determining correction or compensation factors based on the relative irradiances and the baseline irradiance. The lamps are then adjusted via closed loop control using the correction or compensation factors to individually adjust the lamps to the desired output. The lamps may optionally be adjusted to equal irradiances prior to adjusting the lamps to the desired output. The closed loop control ensures process uniformity from substrate to substrate. The irradiance measurement and the correction or compensation factors allow for adjustment of lamp set points due to chamber component degradation, chamber component replacement, or chamber cleaning.
公开/授权文献:
- TWI621374B 雙燈泡燈頭控制方法 公开/授权日：2018-04-11
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H05 | 其他类目不包含的电技术 |
| ----H05B | 电热；其他类目不包含的电照明 |