发明专利
TW201215623A 以（甲基）丙烯酸酯為主之聚合物及包含該聚合物之光敏樹脂組成物 (METH) ACRYLATE-BASED POLYMER AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION INCLUDING THE SAME
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： 以（甲基）丙烯酸酯為主之聚合物及包含該聚合物之光敏樹脂組成物 (METH) ACRYLATE-BASED POLYMER AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION INCLUDING THE SAME
- 专利标题（英）：(Meth) acrylate-based polymer and photosensitive resin composition including the same
- 专利标题（中）：以（甲基）丙烯酸酯为主之聚合物及包含该聚合物之光敏树脂组成物 (METH) ACRYLATE-BASED POLYMER AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION INCLUDING THE SAME
- 申请号：TW100105770 申请日：2011-02-22
- 公开(公告)号：TW201215623A 公开(公告)日：2012-04-16
- 发明人： 金兌鎬 , 梁容秀 , 李俊昊 , 崔承集 , 崔相俊
- 申请人： 第一毛織股份有限公司
- 申请人地址： CHEIL INDUSTRIES INC. 南韓 KR
- 专利权人： 第一毛織股份有限公司
- 当前专利权人： 第一毛織股份有限公司
- 当前专利权人地址： CHEIL INDUSTRIES INC. 南韓 KR
- 代理人： 惲軼群; 陳文郎
- 优先权： 南韓 10-2010-0097834 20101007
- 主分类号： C08F
- IPC分类号： C08F ; G03F
摘要：
發現了包括由下列的化學式1至3表示的重覆單元之(甲基)丙烯酸酯為主之聚合物以及包括該聚合物之光敏樹脂組成物。
於化學式中，各取代基係如說明書中定義的一樣。
摘要（中）：
於化學式中，各取代基係如說明書中定義的一樣。
发现了包括由下列的化学式1至3表示的重复单元之(甲基)丙烯酸酯为主之聚合物以及包括该聚合物之光敏树脂组成物。
于化学式中，各取代基系如说明书中定义的一样。
摘要（英）：
Dicovered are a (meth)acrylate-based polymer including a repeating unit represented by the following Chemical Formulae 1 to 3 and a photosensitive resin composition including the same. In Chemical Formulae, each substituent is the same as defined in the specification.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |