基本信息:
- 专利标题： 感應耦合電漿產生裝置
- 专利标题（英）：Inductively coupled plasma generation device
- 专利标题（中）：感应耦合等离子产生设备
- 申请号：TW100119300 申请日：2011-06-01
- 公开(公告)号：TW201215252A 公开(公告)日：2012-04-01
- 发明人： 松田龍一 , 西川誠二
- 申请人： 三菱重工業股份有限公司
- 申请人地址： MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. 日本 JP
- 专利权人： 三菱重工業股份有限公司
- 当前专利权人： 三菱重工業股份有限公司
- 当前专利权人地址： MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. 日本 JP
- 代理人： 陳長文
- 优先权： 日本 2010-138973 20100618
- 主分类号： H05H
- IPC分类号： H05H
摘要：
本發明提供一種可同時實現較廣之匹配範圍與損耗之降低之感應耦合電漿產生裝置。於將來自高頻電源11之高頻波經由使阻抗匹配之匹配器12而供給至天線14,並藉由來自天線14之電磁波於真空容器內生成電漿之感應耦合電漿產生裝置中,使用L型匹配電路作為匹配器12,並且於該L型匹配電路中之較電容器C1、C2更接近於天線14之位置上,與天線14並列地設置電容器C3。
摘要（中）：
本发明提供一种可同时实现较广之匹配范围与损耗之降低之感应耦合等离子产生设备。于将来自高频电源11之高频波经由使阻抗匹配之匹配器12而供给至天线14,并借由来自天线14之电磁波于真空容器内生成等离子之感应耦合等离子产生设备中,使用L型匹配电路作为匹配器12,并且于该L型匹配电路中之较电容器C1、C2更接近于天线14之位置上,与天线14并列地设置电容器C3。
摘要（英）：
Provided is an inductively coupled plasma generation device capable of having both a wide matching range and reduced loss. An inductively coupled plasma generation device in which high harmonic waves from a high harmonic wave power source (11) are supplied to an antenna (14) by way of a matching device (12) which matches impedance, and plasma is generated in a vacuum vessel by electromagnetic waves from the antenna (14), wherein an L-type matching circuit is used as the matching device (12) and a capacitor (C3) is provided parallel to the antenna (14) at a position closer to the antenna (14) than capacitors (C1, C2) in the L-type matching circuit.