基本信息:
- 专利标题： 薄膜及其用途 FILM AND USE OF THE SAME
- 专利标题（英）：Film and use of the same
- 申请号：TW099139016 申请日：2010-11-12
- 公开(公告)号：TW201139482A 公开(公告)日：2011-11-16
- 发明人： 石川比佐子 , 松田俊範 , 小野陽介 , 八木和雄 , 加賀山陽史
- 申请人： 三井化學股份有限公司
- 申请人地址： MITSUI CHEMICALS, INC. 日本 JP
- 专利权人： 三井化學股份有限公司
- 当前专利权人： 三井化學股份有限公司
- 当前专利权人地址： MITSUI CHEMICALS, INC. 日本 JP
- 代理人： 周良謀; 周良吉
- 优先权： 日本 2009-260449 20091113 日本 2010-067563 20100324
- 主分类号： C08G
- IPC分类号： C08G ; C08L ; C08J ; G02F
摘要：
本發明的薄膜，由具有硫胺甲酸乙酯鍵結的樹脂所構成，且該樹脂所包含之硫與氮的莫耳比(S/N)為0.8以上、未達3，藉由前述之本案發明，而可提供高折射係數、低雙折射以及光線透射性的平衡佳，而且韌性、剛性、尺寸穩定性等機械特性的平衡均優異，加工時的變形等影響極小，另外耐溶劑性更佳的薄膜。
摘要（中）：
本发明的薄膜，由具有硫胺甲酸乙酯键结的树脂所构成，且该树脂所包含之硫与氮的莫耳比(S/N)为0.8以上、未达3，借由前述之本案发明，而可提供高折射系数、低双折射以及光线透射性的平衡佳，而且韧性、刚性、尺寸稳定性等机械特性的平衡均优异，加工时的变形等影响极小，另外耐溶剂性更佳的薄膜。
摘要（英）：
The film according to this invention is formed by resin including thiourethane bonds, characterized by having a molar ratio of sulfur to nitrogen (S/N) over 0.8 and under 3. Provided in this invention is a film with excellent balance in high refraction index, low double refraction, and translucency, and with excellent balance in mechanical properties such as toughness, rigidity, and dimensional stability, resulting in quite small effect in deformation upon processing, and further excellent in solvent resistance.
公开/授权文献:
- TWI500646B 薄膜及其用途 公开/授权日：2015-09-21
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08G | 用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物 |