发明专利
TW200941566A 提高處理腔室內流動均一性的方法和設備 METHOD AND APPARATUS FOR ENHANCING FLOW UNIFORMITY IN A PROCESS CHAMBER
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： 提高處理腔室內流動均一性的方法和設備 METHOD AND APPARATUS FOR ENHANCING FLOW UNIFORMITY IN A PROCESS CHAMBER
- 专利标题（英）：Method and apparatus for enhancing flow uniformity in a process chamber
- 专利标题（中）：提高处理腔室内流动均一性的方法和设备 METHOD AND APPARATUS FOR ENHANCING FLOW UNIFORMITY IN A PROCESS CHAMBER
- 申请号：TW098102909 申请日：2009-01-23
- 公开(公告)号：TW200941566A 公开(公告)日：2009-10-01
- 发明人： 貝拉卡羅 , 卡杜祺詹姆斯D , 芭拉克利斯納阿傑 , 羅夫沙西德 , 柯林肯尼S , 恩蓋葉安德魯 , 諾爾巴積哈米
- 申请人： 應用材料股份有限公司
- 申请人地址： APPLIED MATERIALS, INC. 美國 US
- 专利权人： 應用材料股份有限公司
- 当前专利权人： 應用材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： APPLIED MATERIALS, INC. 美國 US
- 代理人： 蔡坤財; 李世章
- 优先权： 美國 12/020,043 20080125
- 主分类号： H01L
- IPC分类号： H01L ; F17D
摘要：
在此提供一處理基板的方法和設備。在某些具體實施方式中，一用於處理基板的設備可包括一處理腔室，其具有一內容積和一與該內容積耦接之排氣系統。此排氣系統包括複數條第一通道，任一條第一通道具有一入口，適以接收該處理腔室內容積中之廢氣。一抽氣室，耦接至該複數條第一通道中任一條通道，該抽氣室並設有一抽氣口，適以排出該腔室中的廢氣。介於該複數條第一通道之任一條通道入口和抽氣口之間的導率為實質相等。
摘要（中）：
在此提供一处理基板的方法和设备。在某些具体实施方式中，一用于处理基板的设备可包括一处理腔室，其具有一内容积和一与该内容积耦接之排气系统。此排气系统包括复数条第一信道，任一条第一信道具有一入口，适以接收该处理腔室内容积中之废气。一抽气室，耦接至该复数条第一信道中任一条信道，该抽气室并设有一抽气口，适以排出该腔室中的废气。介于该复数条第一信道之任一条信道入口和抽气口之间的导率为实质相等。
摘要（英）：
Methods and apparatus for processing substrates are provided herein. In some embodiments, an apparatus for processing a substrate may include a process chamber having an inner volume and an exhaust system coupled thereto, wherein the exhaust system includes a plurality of first conduits, each first conduit having an inlet adapted to receive exhaust from the inner volume of the process chamber. A pumping plenum is coupled to each of the plurality of first conduits. The pumping plenum has a pumping port adapted to pump the exhaust from the chamber. The conductance between each inlet of the plurality of first conduits and the pumping port is substantially equivalent.