基本信息:
- 专利标题： 清潔構件、具清潔功能之搬送構件及基板處理裝置之清潔方法
- 专利标题（英）：Cleaning member, delivery member with cleaning function, and method of cleaning substrate processing apparatus
- 专利标题（中）：清洁构件、具清洁功能之搬送构件及基板处理设备之清洁方法
- 申请号：TW096125709 申请日：2007-07-13
- 公开(公告)号：TW200821260A 公开(公告)日：2008-05-16
- 发明人： 寺田好夫 TERADA, YOSHIO , 菅生悠樹 SUGO, YUKI , 吉田良德 YOSHIDA, YOSHINORI , 前野洋平 MAENO, YOUHEI
- 申请人： 日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
- 申请人地址： 日本
- 专利权人： 日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
- 当前专利权人： 日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
- 当前专利权人地址： 日本
- 代理人： 陳長文
- 优先权： 日本 2006-219434 20060811
- 主分类号： B82B
- IPC分类号： B82B ; H01L
摘要：
本發明提供一種清潔構件,其可於清潔部位不產生污染而簡便、確實、充分地除去細微異物,較佳的是可除去次微米級之異物。本發明並提供具有上述清潔構件之具清潔功能之搬送構件、以及使用有上述清潔構件或該具清潔功能之搬送構件之基板處理裝置的清潔方法。本發明之清潔構件具有層狀構件,該層狀構件於表面具備複數個柱狀構造之凸部,該柱狀構造之凸部為碳系奈米構造體。
摘要（中）：
本发明提供一种清洁构件,其可于清洁部位不产生污染而简便、确实、充分地除去细微异物,较佳的是可除去次微米级之异物。本发明并提供具有上述清洁构件之具清洁功能之搬送构件、以及使用有上述清洁构件或该具清洁功能之搬送构件之基板处理设备的清洁方法。本发明之清洁构件具有层状构件,该层状构件于表面具备复数个柱状构造之凸部,该柱状构造之凸部为碳系奈米构造体。
摘要（英）：
A cleaning member that is free from staining at cleaning sites, being capable of simple and easy, unfailing, satisfactory removal of minute foreign matter, preferably foreign matter of submicron level; a delivery member with cleaning function including the cleaning member; and a method of cleaning a substrate processing apparatus with the use of the cleaning member or delivery member with cleaning function. There is provided a cleaning member comprising a layer member furnished on a major surface thereof with multiple protrusions of columnar structure, wherein the protrusions of columnar structure consist of a carbon nanostructure.
公开/授权文献:
- TWI350818B 清潔構件、具清潔功能之搬送構件及基板處理裝置之清潔方法 公开/授权日：2011-10-21