基本信息:
- 专利标题： 含界面活性劑的製程溶液 PROCESS SOLUTIONS CONTAINING SURFACTANTS
- 专利标题（英）：Process solutions containing surfactants
- 专利标题（中）：含界面活性剂的制程溶液 PROCESS SOLUTIONS CONTAINING SURFACTANTS
- 申请号：TW094107785 申请日：2005-03-15
- 公开(公告)号：TW200611970A 公开(公告)日：2006-04-16
- 发明人： 張鵬 ZHANG, PENG , 丹尼利.麥加.金.齊 CURZI, DANIELLE MEGAN KING , 伊真.約瑟.喀瓦奇 KARWACKI, EUGENE JOSEPH, JR. , 雷斯萊.卡克斯.巴伯 BARBER, LESLIE COX
- 申请人： 氣體產品及化學品股份公司 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
- 申请人地址： 美國
- 专利权人： 氣體產品及化學品股份公司 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
- 当前专利权人： 氣體產品及化學品股份公司 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
- 当前专利权人地址： 美國
- 代理人： 陳展俊; 林聖富
- 优先权： 美國 10/804,513 20040319
- 主分类号： C11D
- IPC分类号： C11D ; C23G
摘要：
將含有一種或多種界面活性劑的製程溶液用於減少半導體器件製造過程中的缺陷數量。在某些實施方案中，當該製程溶液在圖案化的光致顯影劑層的顯影過程中或之後用作潤洗液時，其可減少顯影後的缺陷，例如圖案損壞或線寬粗糙度。還公開了一種使用本發明的製程溶液，使塗覆了光阻劑的多個基材上的缺陷數量減少的方法，該缺陷例如為圖案損壞和／或線寬粗糙度。
摘要（中）：
将含有一种或多种界面活性剂的制程溶液用于减少半导体器件制造过程中的缺陷数量。在某些实施方案中，当该制程溶液在图案化的光致显影剂层的显影过程中或之后用作润洗液时，其可减少显影后的缺陷，例如图案损坏或线宽粗糙度。还公开了一种使用本发明的制程溶液，使涂覆了光阻剂的多个基材上的缺陷数量减少的方法，该缺陷例如为图案损坏和／或线宽粗糙度。
摘要（英）：
Process solutions comprising one or more surfactants are used to reduce the number of defects in the manufacture of semiconductor devices. In certain embodiments, the process solution may reduce post-development defects such as pattern collapse or line width roughness when employed as a rinse solution either during or after the development of the patterned photoresist layer. Also disclosed is a method for reducing the number of defects such as pattern collapse and/or line width roughness on a plurality of photoresist coated substrates employing the process solution of the present invention.
公开/授权文献:
- TWI313710B 含界面活性劑的製程溶液 PROCESS SOLUTIONS CONTAINING SURFACTANTS 公开/授权日：2009-08-21
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C11 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 |
| ----C11D | 洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收 |