基本信息:
- 专利标题： 聚合物,光阻組成物及形成圖案之方法 POLYMERS, RESIST COMPOSITIONS AND PATTERNING PROCESS
- 专利标题（英）：Polymers, resist compositions and patterning process
- 专利标题（中）：聚合物,光阻组成物及形成图案之方法 POLYMERS, RESIST COMPOSITIONS AND PATTERNING PROCESS
- 申请号：TW092106652 申请日：2003-03-25
- 公开(公告)号：TW200305585A 公开(公告)日：2003-11-01
- 发明人： 原田裕次 , 山潤 , 河合義夫 , 子勝 MASARU SASAGO , 遠藤政孝 , 岸村真治 , 前田一彥 , 大谷充孝 , 小森谷治彥
- 申请人： 信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. , 松下電器產業股份有限公司 MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. , 中央硝子股份有限公司 CENTRAL GLASS CO., LTD.
- 申请人地址： 日本 日本 日本
- 专利权人： 信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.,松下電器產業股份有限公司 MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.,中央硝子股份有限公司 CENTRAL GLASS CO., LTD.
- 当前专利权人： 信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.,松下電器產業股份有限公司 MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.,中央硝子股份有限公司 CENTRAL GLASS CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 日本 日本 日本
- 代理人： 林志剛
- 主分类号： C08F
- IPC分类号： C08F ; G03F
摘要：
一種光阻組成物，其包含帶有氟化磺酸鹽或氟化的基材聚合物，其係敏感於低於300nm的高能量輻射線，具有卓越的透明度、對比及黏性，且適合於光刻技術的微加工。
摘要（中）：
一种光阻组成物，其包含带有氟化磺酸盐或氟化的基材聚合物，其系敏感于低于300nm的高能量辐射线，具有卓越的透明度、对比及黏性，且适合于光刻技术的微加工。
摘要（英）：
A resist composition comprising a base polymer having a fluorinated sulfonate or fluorinated sulfone introduced therein is sensitive to high-energy radiation below 300 nm, has excellent transparency, contrast and adherence, and is suited for lithographic microprocessing.
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |