基本信息:
- 专利标题: 나노 수 처리기
- 专利标题(英):Nano water treatment device
- 专利标题(中):纳米水处理装置
- 申请号:KR2020120012233 申请日:2012-12-26
- 公开(公告)号:KR200468568Y1 公开(公告)日:2013-08-21
- 发明人: 이회성 , 하태준
- 申请人: 이회성 , 하태준
- 申请人地址: 인천 남구 소성로 ***, ***동 ****호 (학익동, 동아풍림아파트)
- 专利权人: 이회성,하태준
- 当前专利权人: 이회성,하태준
- 当前专利权人地址: 인천 남구 소성로 ***, ***동 ****호 (학익동, 동아풍림아파트)
- 代理人: 정준모
- 主分类号: C02F1/48
- IPC分类号: C02F1/48
본 고안은 상부 외주 일면에 물이 공급되는 공급배관이 결합되는 배관 고정패널과, 물이 유출되는 것을 방지하는 다수의 오링과, 상단에 설치되며, 상기 오링이 설치되는 연장패널이 형성된 지지 플랜지 및 하단에 설치되어 나노 분쇄된 물이 배출되는 배출배관이 연결되는 하단 플랜지를 포함하는 본체부; 상기 본체부의 내측에 구성되며, 공급되는 물을 활성화시켜 용존산소량을 증대시키기 위해 - 전압이 인가되는 제1도체로 이루어진 제1전극부재; 상기 본체부의 중앙측에 구성되며, 제1전극부재와 일정 간격 이격되게 구비되고, + 전압이 인가되는 제2도체와, 제2도체를 감싸도록 구성되는 절연부재로 이루어져 제1전극부재와 함께 전기장을 형성하는 제2전극부재; 및 상기 본체부의 상단에 결합되며, 제1 및 제2전극부재와 연결되어 전압의 공급 여부를 결정하고, 수 처리기를 전반적으로 제어하는 제어기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 수 처리기를 제공한다.
The subject innovation relates to a number of handlers.
The subject innovation is installed on a plurality of O-rings and, at the top to prevent the outflow pipe fixed panels and water is coupled a supply pipe for the water supplied to the top peripheral surface, the support flange said O-ring is formed with the extension panel to be installed, and the body portion including a lower flange is installed in the lower nano-comminuted water discharge pipe is connected to be discharged; The body portion is configured in the inside, to enable water to be supplied to increase the amount of dissolved oxygen - the first electrode member made of a first conductor is energized; Consists in the main body center side, the first electrode member and the predetermined distance is provided spaced apart, made up of the second conductor and the insulating member is configured to surround the second conductor is applied to the + voltage electric field with the first electrode member a second electrode member forming; And provides a number of processor characterized in that said body is coupled to the top portion, is connected to the first and the second electrode member including a control board to determine whether or not the supply voltage, and control the number of processors in general.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C02 | 水、废水、污水或污泥的处理 |
----C02F | 水、废水、污水或污泥的处理 |
------C02F1/00 | 水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先 |
--------C02F1/48 | .用磁场或电场的 |