基本信息:
- 专利标题： 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법, 그리고, 화합물 및 산발생제
- 专利标题（英）：RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATOR
- 申请号：KR1020170157614 申请日：2017-11-23
- 公开(公告)号：KR102448656B1 公开(公告)日：2022-09-28
- 优先权： JPJP-P-2016-231814 2016-11-29
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/20 ; G03F7/26 ; H01L21/027 ; C07C309/24