基本信息:
- 专利标题： 고성장률 규소-함유 필름을 위한 전구체로서 작용성화된 사이클로실라잔
- 专利标题（英）：FUNCTIONALIZED CYCLOSILAZANES AS PRECURSORS FOR HIGH GROWTH RATE SILICON-CONTAINING FILMS
- 申请号：KR1020197037836 申请日：2018-05-23
- 公开(公告)号：KR102430845B1 公开(公告)日：2022-08-08
- 优先权： US15/986,030 2018-05-22; US62/510,506 2017-05-24
- 国际申请： PCT/US2018/034111 2018-05-23
- 国际公布： WO2018217877 2018-11-29
- 主分类号： C07F7/21
- IPC分类号： C07F7/21 ; C23C16/40 ; C23C16/34 ; C23C16/455
摘要：
열적원자층증착(ALD) 또는플라즈마강화원자층증착(PEALD) 공정, 또는이들의조합을통해규소-함유필름, 예컨대, 제한없이, 실리콘옥사이드, 실리콘니트라이드, 실리콘옥시니트라이드, 실리콘카보니트라이드, 실리콘옥시카보니트라이드, 또는탄소-도핑된실리콘옥사이드를증착시키기위한작용성화된사이클로실라잔전구체화합물및 조성물및 이를포함하는방법이본원에기재된다.
摘要（英）：
Described herein are functionalized cyclosilazane precursor compounds and compositions and methods comprising same to deposit a silicon-containing film such as, without limitation, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon carbonitride, silicon oxycarbonitride, or carbon-doped silicon oxide via a thermal atomic layer deposition (ALD) or plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) process, or a combination thereof.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07F | 含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物 |
| ------C07F7/00 | 含周期表第Ⅳ族元素的化合物 |
| --------C07F7/02 | .硅化合物 |
| ----------C07F7/21 | ..具有至少1个含硅而不含碳的环的环状化合物 |