基本信息:
- 专利标题： 기판 세정 조성물, 이를 이용한 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
- 专利标题（英）：Substrate cleaning compositions substrate cleaning method and substrate treating apparatus
- 申请号：KR20180120914 申请日：2018-10-11
- 公开(公告)号：KR102195007B1 公开(公告)日：2020-12-29
- 优先权： KR20180120914 2018-10-11
- 主分类号： C11D11/00
- IPC分类号： C11D11/00 ; C11D7/36 ; H01L21/02 ; H01L21/67
摘要：
본발명은기판을세정하는세정조성물을제공한다. 일실시예에의하면, 기판을세정하는세정조성물은, 폴리스티렌라텍스파티클(Polystyrene Latex Particle)에대한한센용해도지수(Hansen solubility parameter)가 5 이상 12 이하인유기솔벤트를포함한다.
摘要（英）：
A composition for cleaning a substrate is provided. According to an embodiment, the composition for cleaning the substrate includes an organic solvent having a Hansen solubility parameter of 5 or more to 12 or less for polystyrene latex to the substrate.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C11 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 |
| ----C11D | 洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收 |
| ------C11D11/00 | 制备含洗涤剂混合物之组合物的特殊方法 |