基本信息:
- 专利标题： 포지티브형 감광성 수지 조성물, 폴리이미드 수지 패턴의 형성 방법, 및 패턴화된 폴리이미드 수지막
- 专利标题（英）：POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING POLYIMIDE RESIN PATTERNS, AND PATTERNED POLYIMIDE RESIN FILM
- 申请号：KR1020157012988 申请日：2013-10-25
- 公开(公告)号：KR102160392B1 公开(公告)日：2020-09-28
- 发明人： 노다구니히로 , 지사카히로키 , 시오타다이
- 申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
- 申请人地址： 일본국 가나가와껭 가와사끼시 나까하라구 나까마루꼬 ***반찌
- 专利权人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
- 当前专利权人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
- 当前专利权人地址： 일본국 가나가와껭 가와사끼시 나까하라구 나까마루꼬 ***반찌
- 代理人： 특허법인코리아나
- 优先权： JPJP-P-2012-237012 2012-10-26
- 国际申请： PCT/JP2013/078946 2013-10-25
- 国际公布： WO2014065398 2014-05-01
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/039
公开/授权文献:
- KR1020150080518A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 폴리이미드 수지 패턴의 형성 방법, 및 패턴화된 폴리이미드 수지막 公开/授权日：2015-07-09