基本信息:
- 专利标题： 반도체용 막 조성물, 반도체용 막 조성물의 제조 방법, 반도체용 부재의 제조 방법, 반도체용 공정재의 제조 방법 및 반도체 장치
- 专利标题（英）：FILM COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR, MANUFACTURING METHOD FOR FILM COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR, MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR MEMBER, MANUFACTURING METHOD FOR PROCESS MATERIAL FOR SEMICONDUCTOR, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
- 申请号：KR1020187013722 申请日：2016-11-16
- 公开(公告)号：KR102075905B1 公开(公告)日：2020-02-11
- 发明人： 가야바야스히사 , 다나카히로후미 , 와치히로코 , 오노쇼코
- 申请人： 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤
- 申请人地址： *-*-*, Higashi-Shimbashi, Minato-ku, Tokyo, Japan
- 专利权人： 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤
- 当前专利权人： 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤
- 当前专利权人地址： *-*-*, Higashi-Shimbashi, Minato-ku, Tokyo, Japan
- 代理人： 제일특허법인(유)
- 优先权： JPJP-P-2015-224196 2015-11-16
- 国际申请： PCT/JP2016/084008 2016-11-16
- 国际公布： WO2017086360 2017-05-26
- 主分类号： C08K5/092
- IPC分类号： C08K5/092 ; C08L101/02 ; C08G69/26 ; C08G73/10 ; H01L21/02 ; H01L21/324