基本信息:
- 专利标题： 기판 처리 장치
- 专利标题（英）：Substrate processing device
- 专利标题（中）：基板处理设备
- 申请号：KR1020177010392 申请日：2015-03-10
- 公开(公告)号：KR1020170060065A 公开(公告)日：2017-05-31
- 发明人： 이와오미치노리
- 申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
- 申请人地址： Tenjinkita-machi *-*, Teranouchi-agaru *-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto ***-****, Japan
- 专利权人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
- 当前专利权人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
- 当前专利权人地址： Tenjinkita-machi *-*, Teranouchi-agaru *-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto ***-****, Japan
- 代理人： 한양특허법인
- 优先权： JPJP-P-2014-190106 2014-09-18
- 国际申请： PCT/JP2015/057020 2015-03-10
- 国际公布： WO2016042806 2016-03-24
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02 ; H01L21/67
摘要：
기판처리장치는, 약액탱크내의약액을순환시키는순환경로를형성하는순환배관과, 순환배관으로부터약액노즐로약액을이끄는공급배관과, 약액노즐을향해공급배관내를흐르는약액을통과시키는열림상태와, 공급배관으로부터약액노즐로의약액의공급을정지하는닫힘상태로전환가능한공급밸브와, 컵으로부터약액탱크로약액을이끄는회수배관과, 순환배관내의약액을회수배관으로이끄는분기배관을포함한다.
摘要（中）：
一种基板处理装置，在打开状态和向循环管道，以形成用于在药液罐中的药液循环的循环路径，供给导致从循环管线配管中的药液喷嘴药液，并通过流过供应管朝向药液喷嘴药液 ，它包括前支管中的可用供给阀药液被切换到关闭状态，用于从供给管停止药液喷嘴的液体供应，导致化学液体从杯返回管线和循环管路到返回线路的化学液体槽。
摘要（英）：
A substrate processing apparatus, the open state and to the circulation piping to form a circulation path for circulating the chemical solution in the chemical liquid tank, the supply leads to the chemical liquid in the chemical liquid nozzle from the circulation line piping and, through the chemical liquid flowing through the supply pipe towards the chemical liquid nozzle , it includes a leading branch pipe a chemical liquid in the available supply valve is switched to the closed state for stopping the liquid supply of a chemical liquid nozzle from a supply pipe, leading to the chemical liquid to the chemical liquid tank from the cup return line and a circulation line to the return line.
公开/授权文献:
- KR101932869B1 기판 처리 장치 公开/授权日：2018-12-26
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |