基本信息:
- 专利标题： 기판 처리장치
- 专利标题（英）：Apparatus for Processing Substrate
- 专利标题（中）：加工基材的装置
- 申请号：KR1020150023829 申请日：2015-02-17
- 公开(公告)号：KR1020160101738A 公开(公告)日：2016-08-26
- 发明人： 전태호 , 김진호 , 이상진 , 손병국 , 이우성 , 허진필
- 申请人： 주식회사 원익아이피에스
- 申请人地址： 경기도 평택시 진위면 진위산단로 ** ()
- 专利权人： 주식회사 원익아이피에스
- 当前专利权人： 주식회사 원익아이피에스
- 当前专利权人地址： 경기도 평택시 진위면 진위산단로 ** ()
- 代理人： 김성남
- 主分类号： H01L21/683
- IPC分类号： H01L21/683 ; H01L21/66 ; H01L27/14
摘要：
본기술의일 실시예에의한기판처리장치는밀폐된처리공간을형성하는챔버, 챔버저부에설치되고상면에기판이안착되며, 상면과수직하는중심축을따라회전가능한서셉터를포함하는서셉터어셈블리및 서셉터측면과대향하는위치에마련되는제 1 센서부를포함할수 있다.
摘要（中）：
根据本发明的实施例的基板处理装置包括：具有密封处理空间的室; 安装在室底部的基座组件允许将基板放置在其顶表面上，并且具有围绕垂直于其顶表面的中心轴旋转的基座; 以及形成在与所述基座的侧面相对的位置的第一传感器部。 因此，本发明提高了基座组件的安装精度。
摘要（英）：
A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present technology, is installed in a chamber, the chamber bottom portion to form the closed treatment space mounting the substrate on the upper surface, the susceptor assembly comprising a rotatable susceptor along the upper surface and the vertical center axis and stand may comprise a first susceptor sensor is provided at a position facing the side.