基本信息:
- 专利标题： 적층체 및 가스 배리어 필름
- 专利标题（英）：Stacked body, and gas barrier film
- 专利标题（中）：堆叠身体和气体障碍物膜
- 申请号：KR1020167017432 申请日：2014-12-11
- 公开(公告)号：KR1020160094395A 公开(公告)日：2016-08-09
- 发明人： 호리이케다카후미 , 사토진 , 다카시마나오
- 申请人： 도판 인사츠 가부시키가이샤
- 申请人地址： *-*, Taito *-chome, Taito-ku, Tokyo, Japan
- 专利权人： 도판 인사츠 가부시키가이샤
- 当前专利权人： 도판 인사츠 가부시키가이샤
- 当前专利权人地址： *-*, Taito *-chome, Taito-ku, Tokyo, Japan
- 代理人： 특허법인코리아나
- 优先权： JPJP-P-2013-256411 2013-12-11
- 国际申请： PCT/JP2014/082780 2014-12-11
- 国际公布： WO2015087949 2015-06-18
- 主分类号： C23C16/455
- IPC分类号： C23C16/455 ; C23C16/40 ; C23C16/56 ; B32B7/12
摘要：
적층체 (10) 가, 제 1 기재 (11) 와, 상기제 1 기재의제 1 면 (11a) 에배치된무기산화물층인원자층퇴적막 (12) 과, 상기원자층퇴적막의일면에배치된제 2 기재 (14) 와, 상기원자층퇴적막과상기제 2 기재사이에배치되고, 상기원자층퇴적막과상기제 2 기재를접착시키는제 1 접착제층 (13) 을갖는다.
摘要（英）：
Placed in the stack 10 has a first base (11), wherein a first surface of the inorganic oxide layer having an atomic layer deposition arrangement in (11a) of the base film 12 and the atomic layer deposition film surface and a second substrate 14, which is disposed between the atomic layer deposition film and the second base material, and has the atomic layer deposition film and the first adhesive layer 13 to bond the second substrate.
公开/授权文献:
- KR101844702B1 적층체 및 가스 배리어 필름 公开/授权日：2018-04-02