基本信息:
- 专利标题： 포토레지스트 애싱 후 잔류물 제거를 위한 세정제 조성물
- 专利标题（英）：Cleansing composition for removal of photoresist post-ashing residue
- 专利标题（中）：清洁组合物去除光刻胶后固化残留物
- 申请号：KR1020150100336 申请日：2015-07-15
- 公开(公告)号：KR1020160071307A 公开(公告)日：2016-06-21
- 发明人： 김성민 , 조용준 , 홍형표 , 이경호 , 최철민
- 申请人： 동우 화인켐 주식회사
- 申请人地址： 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
- 专利权人： 동우 화인켐 주식회사
- 当前专利权人： 동우 화인켐 주식회사
- 当前专利权人地址： 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
- 代理人： 한양특허법인
- 优先权： KR1020140178515 2014-12-11; KR1020150014116 2015-01-29
- 主分类号： C11D7/50
- IPC分类号： C11D7/50 ; C11D7/26
摘要：
본발명은금속막용세정제조성물에관한것으로, 보다상세하게는반도체제조공정에있어서, 애싱(ashing) 후금속기판위에남게되는잔사, 불순물및 오염물등을제거하는세정제조성물에관한것이다.
摘要（中）：
本发明涉及一种用于金属膜的洗涤剂组合物，更具体地说，涉及一种用于去除在灰化之后残留在金属基底上的残留物，杂质，污染物等的洗涤剂组合物。 洗涤剂组合物包含（A）烷基氟化铵，（B）有机磺酸基化合物和（C）极性，原生原料和有机溶剂。
摘要（英）：
The present invention relates to a detergent composition to remove the metal film present invention relates to detergent compositions and more particularly to a semiconductor manufacturing process, an ashing (ashing) after residue which remained on a metal substrate, such as impurities and contaminants.
公开/授权文献:
- KR102347656B1 포토레지스트 애싱 후 잔류물 제거를 위한 세정제 조성물 公开/授权日：2022-01-07
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C11 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 |
| ----C11D | 洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收 |
| ------C11D7/00 | 主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物 |
| --------C11D7/50 | .溶剂 |