基本信息:
- 专利标题： 오존 공급 장치, 오존 공급 방법, 및 하전 입자빔 묘화 시스템
- 专利标题（英）：Ozone provision device, ozone provision method and charged particle beam drawing system
- 专利标题（中）：臭氧配置设备，臭氧提供方法和充电颗粒光束绘图系统
- 申请号：KR1020150131547 申请日：2015-09-17
- 公开(公告)号：KR1020160034213A 公开(公告)日：2016-03-29
- 发明人： 타네다야스유키 , 야마나카요시로
- 申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
- 申请人地址： *-* Shin Sugita Cho, Isogo-ku, Yokohama, Kanagawa, Japan
- 专利权人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
- 当前专利权人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
- 当前专利权人地址： *-* Shin Sugita Cho, Isogo-ku, Yokohama, Kanagawa, Japan
- 代理人： 특허법인엠에이피에스
- 优先权： JPJP-P-2014-191018 2014-09-19; JPJP-P-2015-171781 2015-09-01
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; H01L21/02 ; H01L21/67
摘要：
오존공급장치에있어서, 오존가스를생성하는오존발생기와, 상기오존발생기에의해생성된상기오존가스의유량을제어하는제1 유량제어기구와, 진공장치에공급되는상기오존가스의유량을제어하는제2 유량제어기구와, 상기제1 유량제어기구의이차측이고, 상기제2 유량제어기구의일차측에설치되고, 상기제1 유량제어기구에의해내부압력이대기압보다낮아지도록제어된유량으로상기오존가스가도입되는주배관을구비한다.
摘要（中）：
根据本发明的一个实施方案，提供了一种能够提供高浓度臭氧气体的臭氧提供装置，臭氧提供方法和使用该臭氧提供装置的带电粒子束描绘系统。 臭氧提供装置包括：产生臭氧气体的臭氧发生器; 第一流量控制装置，其控制臭氧发生器产生的臭氧气体的流动; 第二流量控制装置，其控制提供给真空装置的臭氧气体的流量;以及主管，其安装在所述第一流量控制装置的次级端和所述第二流量控制装置的主端上，并且所述臭氧气体 被引入其内部压力被第一流量控制装置控制到低于大气压力的流量。
摘要（英）：
In the ozone supply, the ozone generator to generate ozone gas, and the first flow rate control mechanism for controlling the flow rate of the ozone gas generated by the ozone generator, for controlling the flow rate of the ozone gas supplied to the vacuum apparatus second flow rate control mechanism and a secondary side, and one of the flow rate controlled to a lower than atmospheric pressure, the pressure by the side of the first flow rate control mechanism is provided on the second flow rate control mechanism of the first flow rate control mechanism provided with a main pipe in which the ozone gas is introduced.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |