基本信息:
- 专利标题： 증착물질 공급장치 및 이를 구비한 증착 장치
- 专利标题（英）：Device for providing deposition material and Deposition apparatus including the same
- 专利标题（中）：用于提供沉积材料和沉积装置的装置，包括它们
- 申请号：KR1020140044197 申请日：2014-04-14
- 公开(公告)号：KR1020150118393A 公开(公告)日：2015-10-22
- 发明人： 최건훈 , 이상규 , 문양식 , 이영진
- 申请人： 엘지전자 주식회사
- 申请人地址： ***, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul, *****, Republic of Korea
- 专利权人： 엘지전자 주식회사
- 当前专利权人： 엘지전자 주식회사
- 当前专利权人地址： ***, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul, *****, Republic of Korea
- 代理人： 김기문
- 主分类号： H01L21/20
- IPC分类号： H01L21/20 ; H01L21/02 ; H01L21/324
摘要：
본발명은, 증착물질을가열하여증발시키는도가니; 복수의분사구가길이방향으로형성되어, 상기도가니에서증발된상기증착물질을기판으로분사시키는분배관; 및불활성가스의분사를통해가스막을형성시켜, 상기분배관으로부터분사되는증착물질을기판으로안내하는가스분사관을포함하는증착물질공급장치및 이를구비한증착장치를제공한다.
摘要（中）：
提供了一种用于提供沉积材料的装置，以及包括该装置的沉积装置。 用于提供沉积材料的装置包括：用于加热和蒸发沉积材料的坩埚; 分配管具有沿长度方向形成的多个喷射孔，用于将在坩埚中蒸发的沉积材料喷射到基板上; 以及用于通过喷射惰性气体形成气膜并将从分配管喷射的沉积材料引导到基底的气体喷管。
摘要（英）：
The present invention, a crucible which is heated to evaporate the deposition material; That a plurality of injection orifices are formed in a length direction, a jet the deposition material evaporated from the crucible to the substrate delivery pipe; And by a gas film is formed by the injection of an inert gas, there is provided a deposition material supply apparatus and a deposition apparatus having the same, including a gas injection pipe to guide the deposition material to be ejected from the delivery pipe to the substrate.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
| ------------H01L21/18 | ...器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料 |
| --------------H01L21/20 | ....半导体材料在基片上的沉积，例如外延生长 |