基本信息:
- 专利标题： 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법
- 专利标题（英）：Photoresist composition and method for manufacturing a display substrate using the same
- 专利标题（中）：光电组合物及使用其制造显示基板的方法
- 申请号：KR1020140022523 申请日：2014-02-26
- 公开(公告)号：KR1020150101511A 公开(公告)日：2015-09-04
- 发明人： 김정원 , 주진호 , 김동민 , 김승기 , 박광우 , 함선미
- 申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
- 申请人地址： 경기 용인시 기흥구 삼성로*(농서동)
- 专利权人： 삼성디스플레이 주식회사,주식회사 동진쎄미켐
- 当前专利权人： 삼성디스플레이 주식회사,주식회사 동진쎄미켐
- 当前专利权人地址： 경기 용인시 기흥구 삼성로*(농서동)
- 代理人： 박영우
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/008 ; H01L21/027 ; G03F7/26 ; G02F1/13
상기 포토레지스트 조성물은 포토레지스트 패턴의 내열성을 증가시킬 수 있다. 따라서, 상기 포토레지스트 패턴은 하드베이크 공정 또는 드라이 에칭 공정과 같은 고온 환경에서 프로파일을 유지할 수 있으므로, 포토리소그라피 공정의 신뢰성을 개선할 수 있다. 또한, 상기 포토레지스트 조성물이 터널상 공동을 갖는 표시 기판의 희생층 형성에 이용될 경우, 화소 주변 영역에서의 액정 텍스처 불량을 개선할 수 있다.
The photoresist composition is disclosed, the photoresist composition, a novolac resin, a diazide based photosensitive agent and a solvent. The novolak resin is obtained through a mixture of cresol, xylenol and raise the condensation reaction of the monomer mixture containing at room aldehydes (salicylaldehyde).
The photoresist composition may increase the heat resistance of the photoresist pattern. Accordingly, the photoresist pattern may be maintained because the profile from the high temperature environment, such as hard-baking process or a dry etching process, improve the reliability of the photolithography process. In addition, when the photoresist composition to be used for the sacrificial layer formed of a display substrate having a tunnel cavity, it is possible to improve the liquid crystal texture defects in the pixel peripheral region.