发明公开
KR1020150031424A SiO2-TiO2 계 유리의 제조 방법, SiO2-TiO2 계 유리로 이루어지는 판상 부재의 제조 방법, 제조 장치 및 SiO2-TiO2 계 유리의 제조 장치
审中-实审
基本信息:
- 专利标题： SiO2-TiO2 계 유리의 제조 방법, SiO2-TiO2 계 유리로 이루어지는 판상 부재의 제조 방법, 제조 장치 및 SiO2-TiO2 계 유리의 제조 장치
- 专利标题（英）：SiO2-TiO2-BASED GLASS PRODUCTION METHOD, PRODUCTION METHOD FOR PLATE-SHAPED MEMBER COMPRISING SiO2-TiO2-BASED GLASS, PRODUCTION DEVICE, AND SiO2-TiO2-BASED GLASS PRODUCTION DEVICE
- 专利标题（中）：基于SiO 2 -TiO 2的玻璃生产方法，用于包含SiO 2 -TiO 2的玻璃的板形构件的生产方法，生产装置和基于SiO 2的TiO 2基玻璃生产装置
- 申请号：KR1020147036177 申请日：2013-06-27
- 公开(公告)号：KR1020150031424A 公开(公告)日：2015-03-24
- 发明人： 요시나리도시오 , 사이토다다히코
- 申请人： 가부시키가이샤 니콘
- 申请人地址： *-**-*, Konan, Minato-ku, Tokyo, Japan
- 专利权人： 가부시키가이샤 니콘
- 当前专利权人： 가부시키가이샤 니콘
- 当前专利权人地址： *-**-*, Konan, Minato-ku, Tokyo, Japan
- 代理人： 특허법인코리아나
- 优先权： JPJP-P-2012-144149 2012-06-27
- 国际申请： PCT/JP2013/067678 2013-06-27
- 国际公布： WO2014003129 2014-01-03
- 主分类号： C03B19/14
- IPC分类号： C03B19/14 ; C03B11/00 ; C03C3/06
摘要：
SiO
2 -TiO
2 계 유리의 제조 방법은, 직접법에 의해 타깃 상에 SiO
2 -TiO
2 계 유리를 제조하는 방법으로서, 타깃을 미리 가열하는 제 1 공정과, 미리 가열된 타깃 상에 소정 길이의 SiO
2 -TiO
2 계 유리 잉곳을 성장시키는 제 2 공정을 포함하고, 제 2 공정에 있어서 유리 잉곳의 성장면의 온도가 소정의 하한 온도 이상으로 유지되도록, 제 1 공정에 있어서 타깃을 가열한다.
摘要（英）：
2 -TiO
2 계 유리의 제조 방법은, 직접법에 의해 타깃 상에 SiO
2 -TiO
2 계 유리를 제조하는 방법으로서, 타깃을 미리 가열하는 제 1 공정과, 미리 가열된 타깃 상에 소정 길이의 SiO
2 -TiO
2 계 유리 잉곳을 성장시키는 제 2 공정을 포함하고, 제 2 공정에 있어서 유리 잉곳의 성장면의 온도가 소정의 하한 온도 이상으로 유지되도록, 제 1 공정에 있어서 타깃을 가열한다.
SiO
2 -TiO
2 type glass is a method of producing a method for producing a SiO
2 -TiO
2 type glass on the target by the direct method, the first step, a predetermined length on the heated target in advance to heat the target pre- so that a second step of growing an SiO
2 -TiO
2 type glass ingot, the temperature of the growth surface of the glass ingot is maintained above a predetermined lower limit temperature in the second step, and heating the target in the first step.