基本信息:
- 专利标题: 수증기 배리어 필름, 수증기 배리어 필름용 분산액, 수증기 배리어 필름의 제조 방법, 태양 전지 백 시트, 및, 태양 전지
- 专利标题(英):Vapor barrier film, dispersion for vapor barrier film, method for producing vapor barrier film, solar cell back sheet, and solar cell
- 专利标题(中):蒸气障碍膜,蒸气阻隔膜分散液,蒸汽阻挡膜生产方法,太阳能电池背板和太阳能电池
- 申请号:KR1020147005833 申请日:2012-08-21
- 公开(公告)号:KR1020140070541A 公开(公告)日:2014-06-10
- 发明人: 반도세이지 , 미쇼다이스케 , 가와사키가즈노리 , 에비나다케오 , 하야시히로미치 , 나카무라다카시 , 요시다마나부
- 申请人: 스미또모 세이까 가부시키가이샤 , 고쿠리츠켄큐카이하츠호진 상교기쥬츠 소고켄큐쇼
- 申请人地址: 일본 효오고껭 가꼬군 하리마쵸 미야니시 *** 반찌 노 *
- 专利权人: 스미또모 세이까 가부시키가이샤,고쿠리츠켄큐카이하츠호진 상교기쥬츠 소고켄큐쇼
- 当前专利权人: 스미또모 세이까 가부시키가이샤,고쿠리츠켄큐카이하츠호진 상교기쥬츠 소고켄큐쇼
- 当前专利权人地址: 일본 효오고껭 가꼬군 하리마쵸 미야니시 *** 반찌 노 *
- 代理人: 특허법인코리아나
- 优先权: JPJP-P-2011-186506 2011-08-29; JPJP-P-2012-170039 2012-07-31
- 国际申请: PCT/JP2012/071062 2012-08-21
- 国际公布: WO2013031578 2013-03-07
- 主分类号: C08J5/18
- IPC分类号: C08J5/18 ; C08K3/34 ; C08L79/08 ; H01L31/042
An object of the present invention is to provide a water vapor barrier film having excellent flexibility and moisture resistance, and high mechanical strength. In addition, the present invention comprises a solar cell back sheet, the battery back that the water vapor barrier film or the sun to use the water vapor barrier dispersion for water vapor barrier films for use in the manufacture of films, production method of the water vapor barrier film, the water vapor barrier film using the sheet and an object thereof is to provide a formed solar cell. The present invention is a layered silicate mineral and the water vapor barrier film containing the resin, as the sheet silicate mineral containing a non-water-swelling clay mineral and a water-swelling clay mineral, and the content of the layered silicate mineral to the total weight of the water vapor barrier film 30% or more and less than 90% by weight, and a 40 ℃, 90% RH the water vapor transmission rate is 0.5 g / ㎡ · day or less under a water vapor barrier film environment.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C08 | 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物 |
----C08J | 加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理 |
------C08J5/00 | 含有高分子物质的制品或成形材料的制造 |
--------C08J5/18 | .薄膜或片材的制造 |