基本信息:
- 专利标题： 도전 패턴의 형성 방법, 도전 패턴 기판 및 터치 패널 센서
- 专利标题（英）：Method for forming conductive pattern, conductive pattern substrate, and touch panel sensor
- 专利标题（中）：形成导电图案，导电图案基板和触控面板传感器的方法
- 申请号：KR1020137010665 申请日：2012-10-01
- 公开(公告)号：KR1020140058394A 公开(公告)日：2014-05-14
- 发明人： 야마자키히로시 , 이가라시요시미
- 申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
- 申请人地址： *-*, Marunouchi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, ***-****, Japan
- 专利权人： 히타치가세이가부시끼가이샤
- 当前专利权人： 히타치가세이가부시끼가이샤
- 当前专利权人地址： *-*, Marunouchi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, ***-****, Japan
- 代理人： 특허법인코리아나
- 优先权： JPJP-P-2011-219176 2011-10-03
- 国际申请： PCT/JP2012/075421 2012-10-01
- 国际公布： WO2013051516 2013-04-11
- 主分类号： H01B13/00
- IPC分类号： H01B13/00 ; G06F3/041
摘要：
본 발명의 도전 패턴의 형성 방법은, 기판 상에 형성된 감광성 수지층과, 감광성 수지층의 기판과는 반대측의 면에 형성된 도전막을 포함하는 감광층에, 패턴상으로 활성 광선을 조사하는 제 1 노광 공정과, 산소 존재하에서, 감광층의 적어도 제 1 노광 공정에서의 미노광부의 일부 또는 전부에 활성 광선을 조사하는 제 2 노광 공정과, 제 2 노광 공정 후에 감광층을 현상함으로써 도전 패턴을 형성하는 현상 공정을 구비한다.
摘要（英）：
Method of forming a conductive pattern according to the present invention, the first exposure to the layer comprising the photosensitive resin layer, the resin substrate is formed of a conductive film on a surface opposite to the photosensitive formed on a substrate, irradiating an active light in a pattern step, a presence of oxygen, and the second exposure step of irradiating the active rays to some or all of the unexposed portion at least a first light exposure process of the photosensitive layer, and the second by developing the photosensitive layer after the exposure step of forming a conductive pattern, It includes a developing step.
公开/授权文献:
- KR101932778B1 도전 패턴의 형성 방법, 도전 패턴 기판 및 터치 패널 센서 公开/授权日：2018-12-27
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01B | 电缆；导体；绝缘体；导电、绝缘或介电材料的选择 |
| ------H01B13/00 | 制造导体或电缆制造的专用设备或方法 |