基本信息:
- 专利标题： 규소 기판의 표면을 처리하기 위한 수성 알칼리 조성물 및 방법
- 专利标题（英）：Aqueous alkaline compositions and method for treating the surface of silicon substrates
- 专利标题（中）：水性碱性组合物和处理硅基材表面的方法
- 申请号：KR1020147003265 申请日：2012-07-12
- 公开(公告)号：KR1020140057259A 公开(公告)日：2014-05-12
- 发明人： 페르슈틀베르톨트
- 申请人： 바스프 에스이
- 申请人地址： Carl-Bosch-Strasse **, ***** Ludwigshafen am Rhein, Germany
- 专利权人： 바스프 에스이
- 当前专利权人： 바스프 에스이
- 当前专利权人地址： Carl-Bosch-Strasse **, ***** Ludwigshafen am Rhein, Germany
- 代理人： 특허법인코리아나
- 优先权： US61/521,386 2011-08-09
- 国际申请： PCT/IB2012/053576 2012-07-12
- 国际公布： WO2013021296 2013-02-14
- 主分类号： C11D7/32
- IPC分类号： C11D7/32 ; C11D7/34 ; C11D7/36 ; H01L21/306
(A) 제4급 수산화암모늄; 및
(B) 하기 일반식 (I) ~ (V) 의 수용성 산 및 그의 수용성 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 성분:
(R
1 -SO
3
- )
n X
n
+ (I),
R-PO
3
2
-
(X
n
+ )
3-n (II),
(RO-SO
3
- )
n X
n
+
(III),
RO-PO
3
2
-
(X
n
+ )
3-n (IV), 및
[(RO)
2 PO
2
- ]
n X
n
+ (V)
[식 중,
n = 1 또는 2 이고; X 는 수소, 암모늄, 또는 알칼리 또는 알칼리-토금속이고; 변수 R
1 은 올레핀성 불포화 지방족 또는 시클로지방족 부분이고, R 은 R
1 또는 알킬아릴 부분임]; 및
(C) 물 외의 하나 이상의 성분이 휘발성인 완충계;
및 규소 기판 처리를 위한 상기 조성물의 용도, 규소 기판 표면의 처리 방법, 및 전자기 방사선에 노출시 전기를 생성하는 장치의 제조 방법이 개시된다.
The aqueous alkaline composition for processing a silicon substrate surface, comprising:
(A) The fourth grade ammonium hydroxide; And
(B) represented by the following general formula (I) ~ (V) and the water-soluble acid component selected from the group consisting of their water-soluble salts of:
(R 1 -SO 3 -) n X n + (I),
R-PO
3
2
-
(X n +) 3-n (II),
(RO-SO 3 -) n X n +
(III),
RO-PO
3
2
-
(X n +) 3-n (IV), and
[(RO) 2 PO 2 - ]
n X
n
+ (V)
[In the formula,
n = 1 or 2; X is hydrogen, ammonium, or an alkali or alkaline-earth metal and; Variable R
1 is an olefinic unsaturated aliphatic or cycloaliphatic portion, R represents R
1 or alkyl aryl moiety being; And
(C) based in one or more of the component other than water-volatile buffer;
And a method for manufacturing a device for generating electricity upon exposure to the treatment method, and the electromagnetic radiation of the application, the silicon substrate surface of the composition for a silicon substrate processing is provided.
公开/授权文献:
- KR101922855B1 규소 기판의 표면을 처리하기 위한 수성 알칼리 조성물 및 방법 公开/授权日：2019-02-27
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C11 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 |
| ----C11D | 洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收 |
| ------C11D7/00 | 主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物 |
| --------C11D7/02 | .无机化合物 |
| ----------C11D7/32 | ..含氮的 |