基本信息:
- 专利标题: 기판에 고품질의 홀, 리세스 또는 웰을 생성하는 방법
- 专利标题(英):A method of generating a high quality hole or recess or well in a substrate
- 专利标题(中):在基板中产生高质量孔或凹陷或良好的方法
- 申请号:KR1020137027140 申请日:2012-07-12
- 公开(公告)号:KR1020140052981A 公开(公告)日:2014-05-07
- 发明人: 슈미트크리스티안 , 디트만레안데어 , 셰즈아드리앙 , 호야스벤
- 申请人: 아사히 가라스 가부시키가이샤
- 申请人地址: *-*, Marunouchi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, JAPAN
- 专利权人: 아사히 가라스 가부시키가이샤
- 当前专利权人: 아사히 가라스 가부시키가이샤
- 当前专利权人地址: *-*, Marunouchi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, JAPAN
- 代理人: 장수길; 이석재
- 优先权: EP110070836 2011-08-31
- 国际申请: PCT/EP2012/002939 2012-07-12
- 国际公布: WO2013029713 2013-03-07
- 主分类号: B23K26/38
- IPC分类号: B23K26/38 ; B26F1/28
摘要:
본 발명은 전기 절연성 또는 반도전성 기판에 홀 또는 웰을 생성하는 방법과 이 방법에 의해 기판에 생성되는 홀 또는 웰에 관한 것이다. 본 발명은 또한 본 방법에 의해 기판에 생성되는 홀 또는 웰의 어레이에 관한 것이다.
摘要(中):
本发明涉及在电绝缘或半导体衬底中产生孔或阱的方法,以及通过该方法产生的衬底中的孔或阱的方法。 本发明还涉及通过该方法产生的衬底中的孔阵列或孔。
摘要(英):
The present invention relates to a hole or well is generated in the substrate by a method and a method for creating a hole or well in the electrically insulating or semi-conductive substrate. The invention also relates to an array of wells or holes that are generated in the substrate by this method.