基本信息:
- 专利标题： 박막형성방법 및 박막형성장치
- 专利标题（英）：Thin film forming method and thin film forming apparatus
- 专利标题（中）：薄膜成型方法和薄膜成型装置
- 申请号：KR1020137034706 申请日：2012-06-12
- 公开(公告)号：KR1020140024931A 公开(公告)日：2014-03-03
- 发明人： 이소케이지 , 오카모토유지 , 이치카와에이지
- 申请人： 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
- 申请人地址： *-*,Osaki *-chome Shinagawa-ku, Tokyo, Japan
- 专利权人： 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
- 当前专利权人： 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
- 当前专利权人地址： *-*,Osaki *-chome Shinagawa-ku, Tokyo, Japan
- 代理人： 방해철; 박미희; 김용인
- 优先权： JPJP-P-2011-156774 2011-07-15; JPJP-P-2011-169832 2011-08-03
- 国际申请： PCT/JP2012/065024 2012-06-12
- 国际公布： WO2013011775 2013-01-24
- 主分类号： H05K3/28
- IPC分类号： H05K3/28 ; B05C5/00 ; B05C9/12 ; B05D1/26 ; B05D3/06
摘要：
기판의 표면의, 박막패턴을 형성하는 영역의 가장자리에 대한, 박막재료의 액체방울의 착탄과, 착탄된 박막재료의 경화를 반복함으로써, 박막패턴을 형성하는 영역의 가장자리에, 박막재료로 이루어지는 에지패턴을 형성한다. 에지패턴으로 가장자리가 획정된 내부영역에, 박막재료의 액체방울을 착탄시킨다. 내부영역에 착탄된 박막재료를 경화시킨다. 에지패턴과 내부영역에 착탄된 박막재료로 이루어지는 박막패턴이 형성된다.
摘要（英）：
Of the surface of the substrate by repeating the liquid drop of the thin film material deposited and curing of the deposited thin film material of the edge of an area for forming a thin film pattern, the edge of an area for forming a thin film pattern, the edge made of a thin film material to form a pattern. The inner edges defining with the edge pattern, the deposited droplets of the thin film material. To cure the thin film material deposited on the inner region. The thin film pattern made of a thin film material deposited on the edge pattern and interior regions are formed.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H05 | 其他类目不包含的电技术 |
| ----H05K | 印刷电路；电设备的外壳或结构零部件；电气元件组件的制造 |
| ------H05K3/00 | 用于制造印刷电路的设备或方法 |
| --------H05K3/02 | .其中将导电材料敷至绝缘支承物的表面上，而后再将其导电材料从不希望让电流通导或屏蔽的表面区域中去除的 |
| ----------H05K3/28 | ..涂加非金属保护层 |