基本信息:
- 专利标题: 공정 챔버 압력 제어 시스템 및 방법
- 专利标题(英):Process chamber pressure control system and method
- 专利标题(中):过程室压力控制系统及方法
- 申请号:KR1020137002002 申请日:2010-07-14
- 公开(公告)号:KR1020130141428A 公开(公告)日:2013-12-26
- 发明人: 베스티크,다니엘,제이.
- 申请人: 에스피티에스 테크놀러지스 리미티드
- 申请人地址: Coed Rhedyn Ringland Way, NP** *TA Newport, UNITED KINGDOM
- 专利权人: 에스피티에스 테크놀러지스 리미티드
- 当前专利权人: 에스피티에스 테크놀러지스 리미티드
- 当前专利权人地址: Coed Rhedyn Ringland Way, NP** *TA Newport, UNITED KINGDOM
- 代理人: 특허법인 대아
- 国际申请: PCT/US2010/041906 2010-07-14
- 国际公布: WO2012008954 2012-01-19
- 主分类号: C23C16/455
- IPC分类号: C23C16/455 ; H01L21/311 ; H01L21/67 ; F17C13/00
摘要:
연속적인 가스 유입 및 연속적인 가스 유출을 갖는 공정 챔버 내의 압력을 제어하는 방법으로서, 가스 출구에 있는 펄스 밸브, 압력 게이지, 프로그램가능한 제어기를 마련하는 단계; 및 펄스 밸브의 펄스 레이트를 가변시키는 단계를 포함하며, 개방 시간 또는 폐쇄 시간 중 어느 하나, 또는 개방 시간 및 폐쇄 시간 둘 모두는 게이지 압력이 프로그래밍된 설정값보다 높거나 낮음에 따라서 길어지거나 짧아진다.
摘要(英):
Continuous gas inlet and a method of controlling the pressure in a process chamber having a continuous gas outlet, the pulse valve in the gas outlet, a pressure gauge, the method comprising: providing a programmable controller; And the pulse rate of the pulse valve, and including the step of varying any one of the opening time or closing time, or both the opening time and closing time can be longer or shorter depending on the higher or lower than the gauge pressure of the programmed settings.
公开/授权文献:
- KR101728933B1 공정 챔버 압력 제어 시스템 및 방법 公开/授权日:2017-05-02