基本信息:
- 专利标题： 손실 프로파일 분석
- 专利标题（英）：Loss profile analysis
- 专利标题（中）：损失概况分析
- 申请号：KR1020127031090 申请日：2011-05-03
- 公开(公告)号：KR1020130113313A 公开(公告)日：2013-10-15
- 发明人： 에인지거,핀차스 , 벤-쉬무엘,에란 , 빌친스키,알렉산더 , 라펠,아밋
- 申请人： 고지 엘티디.
- 申请人地址： Mintflower Place, *th Floor * Par-La-Ville Road Hamilton, HM**, Bermuda
- 专利权人： 고지 엘티디.
- 当前专利权人： 고지 엘티디.
- 当前专利权人地址： Mintflower Place, *th Floor * Par-La-Ville Road Hamilton, HM**, Bermuda
- 代理人： 허용록
- 优先权： US61/282,980 2010-05-03; US61/282,981 2010-05-03; US61/282,983 2010-05-03; US61/282,984 2010-05-03; US61/282,985 2010-05-03; US61/282,986 2010-05-03
- 国际申请： PCT/IB2011/001489 2011-05-03
- 国际公布： WO2011138688 2011-11-10
- 主分类号： H05B6/64
- IPC分类号： H05B6/64
摘要：
에너지 인가 구역에 있는 목표물로 전자기 에너지를 인가하기 위한 장치 및 방법이 개시된다. 적어도 하나의 프로세서가 에너지 인가 구역에 있는 목표물로 전자기 에너지가 다수의 전자기장 패턴에서 인가되게 하도록 구성될 수 있다. 프로세서는 다수의 필드 패턴들 각각에 대해 에너지 인가 구역에서 소멸되는 파워의 양을 결정하도록 더 구성될 수 있다. 프로세서는 다수의 필드 패턴들이 에너지 인가 구역으로 인가될 때 소멸되는 파워의 양에 기초하여 에너지 인가 구역의 적어도 일부에 대한 에너지 흡수 특성들의 공간적 분포를 결정하도록 또한 구성될 수 있다.
摘要（中）：
公开了用于向能量施加区域中的物体施加射频（RF）能量的装置和方法。 至少一个处理器可以被配置为使能量以多个电磁场图案施加到能量施加区域中的对象。 处理器还可以被配置为确定针对多个场模式中的每一个的能量施加区域中消耗的功率量。 处理器还可以被配置为基于当多个场模式被施加到能量施加区域时耗散的功率量来确定跨越能量施加区域的至少一部分的能量吸收特性的空间分布。
摘要（英）：
An apparatus and method for applying an electromagnetic energy applied to the target energy is disclosed in the section. It is at least one of the processor that electromagnetic energy to the target zone in the energy applied can be configured to be applied in a number of the electromagnetic field pattern. The processor may be further configured to determine the amount of power dissipated from the energy applying section for each of a plurality of field patterns. The processor may be further configured to determine the spatial distribution of the energy-absorbing properties for at least a portion of the energy is based on an amount of power to be destroyed when applied to a plurality of field patterns applied energy zone area.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H05 | 其他类目不包含的电技术 |
| ----H05B | 电热；其他类目不包含的电照明 |
| ------H05B6/00 | 通过电场、磁场或电磁场加热的 |
| --------H05B6/64 | .微波加热 |