基本信息:
- 专利标题： EUV 노광 장치
- 专利标题（英）：Euv exposure apparatus
- 专利标题（中）：EUV曝光装置
- 申请号：KR1020137002566 申请日：2011-07-28
- 公开(公告)号：KR1020130096231A 公开(公告)日：2013-08-29
- 发明人： 바에르,노르만 , 로에링,울리히 , 나트,올리버 , 뷔티히,게로 , 라우퍼,티모 , 퀘르쯔,페테르 , 림바흐,귀도 , 헴바허,슈테판 , 발터,홀거 , 콴,임-분-패트릭 , 하우프,마르쿠스 , 스티켈,프란쯔-요세프 , 판슈트,얀
- 申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 , 에이에스엠엘 네덜란드 비.브이.
- 申请人地址： Rudolf-Eber-Strasse * ***** Oberkochen Germany
- 专利权人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하,에이에스엠엘 네덜란드 비.브이.
- 当前专利权人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하,에이에스엠엘 네덜란드 비.브이.
- 当前专利权人地址： Rudolf-Eber-Strasse * ***** Oberkochen Germany
- 代理人： 한양특허법인
- 优先权： US61/369,142 2010-07-30
- 国际申请： PCT/EP2011/062996 2011-07-28
- 国际公布： WO2012013747 2012-02-02
- 主分类号： G02B27/18
- IPC分类号： G02B27/18 ; G03F7/20 ; G21K1/06 ; H01L21/027
摘要：
투영 렌즈가 EUV 광의 노광 파워로 노광되면, 레티클 상의 오브젝트 필드를 기판 상의 이미지 필드로 투영하는 바디 및 반사면을 각각 포함하는 적어도 2개의 반사 광학 소자를 포함하고, 적어도 2개의 반사 광학 소자의 바디는 각각의 제로 크로스 온도에서 제로인 열 팽창의 온도 종속 계수를 갖는 재료를 포함하고, 제로 크로스 온도 사이의 차이의 절대 값은 6K보다 큰, EUV 리소그래피 투영 노광 시스템의 투영 렌즈가 제공된다.
摘要（英）：
If the projection lens is exposed to EUV light exposing power, it includes at least two reflecting optical element including a body and a reflecting surface for projecting an object field on the reticle in the image field on the substrate, respectively, and the body of the at least two reflection optical elements each agent includes a material having a temperature-dependent coefficient of thermal expansion in zero cross temperatures, the absolute value of the difference between the zero crossing temperature is provided with a projection lens of a large, EUV lithography projection exposure system than 6K.
公开/授权文献:
- KR101895083B1 EUV 노광 장치 公开/授权日：2018-10-18
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| ------G02B27/00 | 其他光学系统；其他光学仪器 |
| --------G02B27/18 | .用于光学投影，例如，反光镜和聚光镜及物镜的组合 |