基本信息:
- 专利标题： 규소 화합물, 축합물 및 그것을 사용한 조성물, 및 그것을 사용하는 패턴 형성 방법
- 专利标题（英）：Silicon compounds, condensate and composition using the same, and patterning process using the same
- 专利标题（中）：硅化合物，使用它们的冷凝物和组合物，以及使用该化合物的方法
- 申请号：KR1020120132218 申请日：2012-11-21
- 公开(公告)号：KR1020130056827A 公开(公告)日：2013-05-30
- 发明人： 야마나카가즈히로 , 오가와츠요시
- 申请人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드
- 申请人地址： 일본국, 야마구치, 우베-시 오아자 오키우베 ****
- 专利权人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드
- 当前专利权人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드
- 当前专利权人地址： 일본국, 야마구치, 우베-시 오아자 오키우베 ****
- 代理人： 특허법인(유)화우
- 优先权： JPJP-P-2011-254872 2011-11-22; JPJP-P-2012-238210 2012-10-29
- 主分类号： C07F7/18
- IPC分类号： C07F7/18 ; C07D211/76 ; C07D491/04
摘要：
PURPOSE: A silicon compound and a condensate prepared from the same are provided to ensure high sensitivity and pattern resolution by containing a photoacid generating group, and to be used as a resist. CONSTITUTION: A silicon compound is denoted by general formula 1. A condensate is prepared by condensation of the silicon compound. A composition contains the condensate and the solvent. A method for forming a pattern comprises: a step of applying the composition on a substrate and drying to form a film; a step of inserting a photomask with a pattern and irradiating with high energy beam for exposing the film; and a step of dissolving the exposed part using a developing solution and obtaining a transferred rest pattern.
摘要（中）：
目的：提供硅化合物和由其制备的缩合物，以通过含有光致酸产生基团来确保高灵敏度和图案分辨率，并用作抗蚀剂。 构成：硅化合物由通式1表示。通过硅化合物的缩合制备缩合物。 组合物含有冷凝物和溶剂。 形成图案的方法包括：将所述组合物涂布在基材上并干燥以形成膜的步骤; 插入具有图案的光掩模并用高能束照射以曝光所述膜的步骤; 以及使用显影液溶解曝光部分并获得转印的静止图案的步骤。
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07F | 含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物 |
| ------C07F7/00 | 含周期表第Ⅳ族元素的化合物 |
| --------C07F7/02 | .硅化合物 |
| ----------C07F7/04 | ..硅酸的酯 |
| ------------C07F7/18 | ...具有1个或更多的C—Si键以及1个或更多的C—O—Si键的化合物 |