基本信息:
- 专利标题: 합성 비정질 실리카 분말 및 그 제조 방법
- 专利标题(英):Synthetic amorphous silica powder and method for producing same
- 专利标题(中):合成无定形硅石粉及其生产方法
- 申请号:KR1020127014167 申请日:2010-12-27
- 公开(公告)号:KR1020120120149A 公开(公告)日:2012-11-01
- 发明人: 우에다도시아키
- 申请人: 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
- 申请人地址: *-*, Otemachi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, Japan
- 专利权人: 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
- 当前专利权人: 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
- 当前专利权人地址: *-*, Otemachi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, Japan
- 代理人: 특허법인코리아나
- 优先权: JPJP-P-2010-001793 2010-01-07
- 国际申请: PCT/JP2010/073499 2010-12-27
- 国际公布: WO2011083710 2011-07-14
- 主分类号: C01B33/18
- IPC分类号: C01B33/18 ; C01B33/158
50 이 10 ? 2000 ㎛ 인 합성 비정질 실리카 분말로서, BET 비표면적을 평균 입경 D
50 으로부터 산출한 이론 비표면적으로 나눈 값이 1.35 를 초과 1.75 이하, 진밀도가 2.10 g/㎤ ? 2.20 g/㎤, 입자 내 공간율이 0 ? 0.05 이하, 원형도가 0.50 이상 0.75 이하 및 구상화율이 0.20 이상 0.55 미만인 것을 특징으로 한다. 이 합성 비정질 실리카 분말은, 표면에 흡착되는 가스 성분, 분말 내부의 가스 성분이 적기 때문에, 이 분말을 사용하여 제조된 합성 실리카 유리 제품에서는, 고온 및 감압의 환경하에서의 사용 에 있어서도, 기포의 발생 또는 팽창이 대폭 저감된다.
Synthetic amorphous silica powder of the present invention, after subjected to a spheroidization process in the assembled silica powder, is washed and dried to obtained the average particle diameter D
50 10? 2000 ㎛ of a synthetic amorphous silica powder, BET specific surface area of the average particle diameter D is divided by the theoretical calculation from the specific surface area exceeds
50 1.35 1.75 or less, a true density of 2.10 g / ㎤? 2.20 g / ㎤, the particles within the space rate is zero? 0.05 or less, it characterized in that also a circle of less than less than 0.75 and more than 0.20 0.50 0.55 nodularity. The synthetic amorphous silica powder, the gas component to be adsorbed to the surface, since less the gas components within the powder, in the synthetic silica glass product produced using this powder, in the use under the environment of high temperature and reduced pressure, generation of bubbles or this expansion is greatly reduced.
公开/授权文献:
- KR101668906B1 합성 비정질 실리카 분말 및 그 제조 방법 公开/授权日:2016-10-24
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C01 | 无机化学 |
----C01B | 非金属元素;其化合物 |
------C01B33/00 | 硅;其化合物 |
--------C01B33/08 | .含卤素的化合物 |
----------C01B33/12 | ..硅石;其水合物,如勒皮硅酸 |
------------C01B33/18 | ...既非溶胶态又非凝胶态的细分散硅石的制备;其后处理 |