基本信息:
- 专利标题: 고속에서 저온 기판상에 박막을 반응시키기 위한 방법 및 장치
- 专利标题(英):Method and apparatus for reacting thin films on low-temperature substrates at high speeds
- 专利标题(中):用于在低温下反应低温基材薄膜的方法和装置
- 申请号:KR1020117011230 申请日:2009-10-19
- 公开(公告)号:KR1020110082575A 公开(公告)日:2011-07-19
- 发明人: 슈로더,쿠르트,에이.
- 申请人: 엔씨씨 나노, 엘엘씨
- 申请人地址: *** Parker Drive, Suite ****, Austin, TX *****, U.S.A.
- 专利权人: 엔씨씨 나노, 엘엘씨
- 当前专利权人: 엔씨씨 나노, 엘엘씨
- 当前专利权人地址: *** Parker Drive, Suite ****, Austin, TX *****, U.S.A.
- 代理人: 특허법인 남앤드남
- 优先权: US61/196,531 2008-10-17
- 国际申请: PCT/US2009/061172 2009-10-19
- 国际公布: WO2010045639 2010-04-22
- 主分类号: H05K1/09
- IPC分类号: H05K1/09 ; H05K3/00
摘要:
본 발명은 반응성 분위기에서 저온 기판상에 박막을 반응시키는 방법에 관한 것이다. 박막은 환원가능한 금속 산화물을 포함하고, 반응성 분위기는 환원성 기체 예컨대 수소 또는 메탄을 포함한다. 저온 기판은 중합체, 플라스틱, 또는 종이가 될 수 있다. 매우 강한 스트로브 시스템으로부터의 다중 광 펄스가 사용되어 금속 산화물을 금속으로 환원시키고, 해당되는 경우, 금속을 소결시킨다.
摘要(英):
The present invention relates to a method for reacting thin films on low temperature substrates in a reactive atmosphere. The thin film comprises a reducible metal oxide and the reactive atmosphere is the reducing gas include, for example, hydrogen or methane. Low-temperature substrate may be a polymer, plastic, or paper. And a very strong multi-pulse from the strobe system is used for reducing the metal oxide to metal, if applicable, the sintered metal.
公开/授权文献:
- KR101604437B1 고속에서 저온 기판상에 박막을 반응시키기 위한 방법 및 장치 公开/授权日:2016-03-17
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H05 | 其他类目不包含的电技术 |
----H05K | 印刷电路;电设备的外壳或结构零部件;电气元件组件的制造 |
------H05K1/00 | 印刷电路 |
--------H05K1/02 | .零部件 |
----------H05K1/09 | ..金属图形材料的应用 |