基本信息:
- 专利标题: 엣지 가중치를 사용한 드롭 패턴 생성
- 专利标题(英):Drop pattern generation with edge weighting
- 专利标题(中):具有边缘加权的DROP图形生成
- 申请号:KR1020117011499 申请日:2009-10-20
- 公开(公告)号:KR1020110081298A 公开(公告)日:2011-07-13
- 发明人: 슈마커필립디.
- 申请人: 캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드
- 申请人地址: **** West Braker Ln, Bldg. C-*** Austin, Texas *****-****, U.S.A.
- 专利权人: 캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드
- 当前专利权人: 캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드
- 当前专利权人地址: **** West Braker Ln, Bldg. C-*** Austin, Texas *****-****, U.S.A.
- 代理人: 송봉식; 정삼영
- 优先权: US12/580,813 2009-10-16; US61/107,105 2008-10-21
- 国际申请: PCT/US2009/005688 2009-10-20
- 国际公布: WO2010047766 2010-04-29
- 主分类号: G03F7/00
- IPC分类号: G03F7/00 ; B29C33/38
摘要:
임프린트 리소그래피는 유체 맵을 생성하는 단계, 유체 드롭 패턴을 생성하는 단계 및 유체 드롭 패턴에 따라서 기판에 유체를 적용하는 단계를 포함할 수 있다. 유체 드롭 패턴은 1회 이상의 변형된 로이드 법의 반복을 통해 엣지 가중치를 사용하여 생성될 수 있으며, 그 결과 표면 피처들이 임프린트 동안 유체로 실질적으로 충전된다.
摘要(英):
Imprint lithography may include the step of applying a fluid to a substrate according to the steps for generating a phase pattern and a fluid drop, a fluid drop pattern for generating a fluid map. A fluid drop through the pattern repeat of a modified Lloyd's method one or more times may be generated using an edge weight, so that the surface features are substantially filled with a fluid for the imprint.
公开/授权文献:
- KR101615578B1 엣지 가중치를 사용한 드롭 패턴 생성 公开/授权日:2016-04-26