基本信息:
- 专利标题： 식각액 조성물
- 专利标题（英）：Etching liquid composition
- 专利标题（中）：空值
- 申请号：KR1020100098368 申请日：2010-10-08
- 公开(公告)号：KR1020110047130A 公开(公告)日：2011-05-06
- 发明人： 이석준 , 신혜라 , 권오병 , 이유진
- 申请人： 동우 화인켐 주식회사 , 삼성디스플레이 주식회사
- 申请人地址： 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
- 专利权人： 동우 화인켐 주식회사,삼성디스플레이 주식회사
- 当前专利权人： 동우 화인켐 주식회사,삼성디스플레이 주식회사
- 当前专利权人地址： 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
- 代理人： 한양특허법인
- 优先权： KR1020090103732 2009-10-29
- 主分类号： C09K13/08
- IPC分类号： C09K13/08 ; C23F1/20 ; C23F1/30 ; H01L21/306
摘要：
PURPOSE: An etchant composition is provided to ensure excellent etching property to an indium-based metal layer, aluminum-lanthanum-based alloy film, and titanium-based metal film, and excellent etching profile, and to prevent underlayer damage and residue generation. CONSTITUTION: An etchant composition of a trilayer consisting of an indium-based metal layer, aluminum-lanthanum-based alloy film, and titanium-based metal film includes, based on the total weight of the composition, 1-15 weight% of hydrogen peroxide, 0.1-10 weight% of inorganic acid, 1-15 weight% of hydrogen peroxide, 0.1-10 weight% of fluorine-containing compound, and the remaining amount of water.
摘要（中）：
目的：提供蚀刻剂组合物以确保对铟基金属层，铝 - 镧基合金膜和钛基金属膜的优异的蚀刻性能，优异的蚀刻轮廓，并且防止底层损伤和残留物产生。 构成：由铟基金属层，铝 - 镧基合金膜和钛基金属膜构成的三层的蚀刻剂组成基于组合物的总重量，包括1-15重量％的过氧化氢 ，无机酸0.1-10重量％，过氧化氢1-15重量％，含氟化合物0.1-10重量％，剩余量的水。
公开/授权文献:
- KR101804573B1 식각액 조성물 公开/授权日：2017-12-06
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C09 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 |
| ----C09K | 不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用 |
| ------C09K13/00 | 蚀刻，表面光亮或浸渍组合物 |
| --------C09K13/04 | .含一种无机酸 |
| ----------C09K13/08 | ..含一种氟化物 |