基本信息:
- 专利标题: 다층 미러 및 리소그래피 장치
- 专利标题(英):Multilayer mirror and lithographic apparatus
- 专利标题(中):多层镜像和平面设备
- 申请号:KR1020117000110 申请日:2009-05-20
- 公开(公告)号:KR1020110026463A 公开(公告)日:2011-03-15
- 发明人: 글루쉬코프데니스알렉산드로비치 , 바니너바딤예브제너비치 , 무어스요하네스후베르투스요세피나 , 시마에녹레오니드아이지코비치 , 살라스첸코니콜라이니콜라에비치
- 申请人: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
- 申请人地址: P.O.Box ***, **** AH Veldhoven, The Netherlands
- 专利权人: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
- 当前专利权人: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
- 当前专利权人地址: P.O.Box ***, **** AH Veldhoven, The Netherlands
- 代理人: 유미특허법인
- 优先权: US61/129,087 2008-06-04
- 国际申请: PCT/EP2009/056130 2009-05-20
- 国际公布: WO2009147014 2009-12-10
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G21K1/06 ; G03F1/00
摘要:
다층 미러는 2-8 nm 범위 내의 파장을 가지는 방사선을 반사하도록 구성 및 배치된다. 상기 다층 미러는 Cr 층과 Sc 층, Cr 층과 C 층, C 층과 B
4 C 층, U 층과 B
4 C 층, Th 층과 B
4 C 층, C 층과 B
9 C 층, La 층과 B
9 C 층 U 층과 B
9 C 층, Th 층과 B
9 C 층, La 층과 B 층, C 층과 B 층, U 층과 B 층, Th 층과 B 층으로 이루어진 그룹에서 선택된다.
摘要(英):
4 C 층, U 층과 B
4 C 층, Th 층과 B
4 C 층, C 층과 B
9 C 층, La 층과 B
9 C 층 U 층과 B
9 C 층, Th 층과 B
9 C 층, La 층과 B 층, C 층과 B 층, U 층과 B 층, Th 층과 B 층으로 이루어진 그룹에서 선택된다.
Multi-layer mirrors are configured and arranged to reflect radiation having a wavelength in the range 2-8 nm. The multilayer mirror Cr layer and the Sc layer, Cr layer and the C layer, C layer and B
4 C layers, U layer and B
4 C layers, Th layer and B
4 C layer, C layer and
B 9 C layer, La layer and is selected from B
9 C layer U layer and B
9 C layer, Th layer and B
9 C layer, the La layer and the B layer, C layer and B layer, the group consisting of U layer and the B layer, Th layer and the B layer .
公开/授权文献:
- KR101625934B1 다층 미러 및 리소그래피 장치 公开/授权日:2016-05-31