基本信息:
- 专利标题: MEMS 장치 내의 제어된 부착성을 위한 저온 비정질 실리콘 희생층
- 专利标题(英):Low temperature amorphous silicon sacrificial layer for controlled adhesion in mems devices
- 专利标题(中):用于MEMS器件中控制粘合的低温非晶硅绝缘层
- 申请号:KR1020117000008 申请日:2009-06-03
- 公开(公告)号:KR1020110014709A 公开(公告)日:2011-02-11
- 发明人: 웹스터,제임스,랜돌프 , 투,탄,응이아 , 얀,시아오밍 , 정,원석
- 申请人: 퀄컴 엠이엠에스 테크놀로지스, 인크.
- 申请人地址: **** Morehouse Drive, San Diego, CA *****-****, U.S.A.
- 专利权人: 퀄컴 엠이엠에스 테크놀로지스, 인크.
- 当前专利权人: 퀄컴 엠이엠에스 테크놀로지스, 인크.
- 当前专利权人地址: **** Morehouse Drive, San Diego, CA *****-****, U.S.A.
- 代理人: 특허법인아주
- 优先权: US12/133,813 2008-06-05
- 国际申请: PCT/US2009/046176 2009-06-03
- 国际公布: WO2009149213 2009-12-10
- 主分类号: B81C1/00
- IPC分类号: B81C1/00 ; B81B3/00
摘要:
전자기계시스템 장치의 이동식 구성요소의 영구 부착성 혹은 정지마찰을 경감시키는 해당 전자기계시스템 장치의 제조방법이 제공된다. 상기 방법은 개선되고 재현가능한 표면 조도를 지니는 비정질 실리콘 희생층을 제공한다. 상기 비정질 실리콘 희생층은 상기 전자기계시스템 장치에 이용되는 통상의 재료에 대한 우수한 부착성을 더욱 발휘한다.
摘要(英):
The manufacturing method for an electronic machine system, the electro-mechanical system device to relieve the permanent adhesion or traction of the movable components of the apparatus. The method provides an amorphous silicon sacrificial layer having an improved and reproducible surface roughness. The a-Si sacrificial layer should further exhibit excellent adhesion to a conventional material used in the electro-mechanical system device.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
B | 作业;运输 |
--B81 | 微观结构技术 |
----B81C | 专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备 |
------B81C1/00 | 在基片内或其上制造或处理的装置或系统 |