基本信息:
- 专利标题： 마스크 몰드 및 그 제작방법과 제작된 마스크 몰드를이용한 대면적 미세패턴 성형방법
- 专利标题（英）：Mask mold and manufacturing method thereof and method for forming large-area fine pattern using the mask mold
- 专利标题（中）：掩模模具及其制造方法及其使用掩模模型形成大面积微细图案的方法
- 申请号：KR1020070053228 申请日：2007-05-31
- 公开(公告)号：KR1020080105524A 公开(公告)日：2008-12-04
- 发明人： 김정길 , 조영태 , 심영석 , 조성훈 , 이석원 , 박선미 , 권신 , 서정우 , 박정우 , 조성우
- 申请人： 삼성전자주식회사
- 申请人地址： ***, Samsung-ro, Yeongtong-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do, Republic of Korea
- 专利权人： 삼성전자주식회사
- 当前专利权人： 삼성전자주식회사
- 当前专利权人地址： ***, Samsung-ro, Yeongtong-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do, Republic of Korea
- 代理人： 특허법인가산
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; B82Y40/00
摘要：
A mask mold and a manufacturing method, and a large area micro-pattern molding method using the same are provided to apply the fine patterns of nano-scale or complicated three dimensional shapes with the simple method and the cheap cost. A mask mold manufacturing method comprises the following steps: the step for coating the resist onto a plurality of miniature molds in which a mask or a micro-pattern is imprinted(110); the step for imprinting the micro-pattern on the resist by pressurizing a plurality of miniature molds(150); the step for solidifying the resist(160); the step for separating the resist from the plurality of molds(170).
摘要（中）：
提供掩模模具和制造方法以及使用其的大面积微图案模塑法以简单的方法和廉价的成本来应用纳米级或复杂三维形状的精细图案。 掩模模具制造方法包括以下步骤：将抗蚀剂涂布在其中印有掩模或微图案的多个微型模具（110）上的步骤; 通过加压多个微型模具（150）将微图案印刷在抗蚀剂上的步骤; 凝固抗蚀剂（160）的步骤; 用于将抗蚀剂与多个模具（170）分离的步骤。
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |