基本信息:
- 专利标题： 두 측면 측정용 오버래핑 공통 광로 간섭계
- 专利标题（英）：Overlapping common-path interferometers for two-sided measurement
- 专利标题（中）：用于双面测量的通用通道干涉仪
- 申请号：KR1020077016726 申请日：2005-12-14
- 公开(公告)号：KR1020070090033A 公开(公告)日：2007-09-04
- 发明人： 쿠라위엑,앤드류더블유 , 트로노로네,마크제이 , 마론,조셉씨 , 던,토마스제이
- 申请人： 코닝 인코포레이티드
- 申请人地址： One Riverfront Plaza, Corning, NY ***** U.S.A.
- 专利权人： 코닝 인코포레이티드
- 当前专利权人： 코닝 인코포레이티드
- 当前专利权人地址： One Riverfront Plaza, Corning, NY ***** U.S.A.
- 代理人： 청운특허법인
- 优先权： US11/023,018 2004-12-23
- 国际申请： PCT/US2005/045617 2005-12-14
- 国际公布： WO2006071569 2006-07-06
- 主分类号： G01B11/02
- IPC分类号： G01B11/02 ; G01B9/02
摘要：
Two common-path interferometers share a measuring cavity for measuring opposite sides of opaque test parts. Interference patterns are formed between one side of the test parts and the reference surface of a first of the two interferometers, between the other side of the test parts and the reference surface of a second of the two interferometers, and between the first and second reference surfaces. The latter measurement between the reference surfaces of the two interferometers enables the measurements of the opposite sides of the test parts to be related to each other.
摘要（中）：
两个共通干涉仪共用测量腔，用于测量不透明测试部件的相对侧面。 在测试部件的一侧和两个干涉仪中的第一个干涉仪的参考表面之间，在测试部件的另一侧和两个干涉仪中的第二个干涉仪的参考表面之间以及在第一和第二参考点之间形成干涉图案 表面。 在两个干涉仪的参考表面之间的后一测量使得测试部件的相对侧的测量彼此相关。
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01B | 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 |
| ------G01B11/00 | 以采用光学方法为特征的计量设备 |
| --------G01B11/02 | .用于计量长度、宽度或厚度 |