基本信息:
- 专利标题： 포지티브 타입 포토레지스트 조성물
- 专利标题（英）：Positive type photoresist composition
- 专利标题（中）：正极型光电组合物
- 申请号：KR1020040011801 申请日：2004-02-23
- 公开(公告)号：KR1020050083314A 公开(公告)日：2005-08-26
- 发明人： 김상태 , 강승진 , 양돈식 , 박종원
- 申请人： 동우 화인켐 주식회사
- 申请人地址： 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
- 专利权人： 동우 화인켐 주식회사
- 当前专利权人： 동우 화인켐 주식회사
- 当前专利权人地址： 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
- 代理人： 특허법인코리아나
- 主分类号： G03F7/023
- IPC分类号： G03F7/023
(식중, R 은 H , OH, 탄소수 1 내지 6 의 알킬, 탄소수 1 내지 6 의 알콕시, 또는 탄소수 6 내지 12 의 아릴이다)
(식중, R 은 H , OH, 탄소수 1 내지 6 의 알킬, 탄소수 1 내지 6 의 알콕시, 또는` 탄소수 6 내지 12 의 아릴이다)
The present invention relates to a photoresist composition for forming a positive-type photoresist films of about 1 micrometer and 2 can reverse tapered profile applied to a micrometer or more thick lift-off process to be irradiated by light of 330 ~ 450nm. The photoresist composition of the present invention is characterized in that to the solvent, the following compounds of formula (I) such as Dia Zona the neoplasm? Synthesis of photosensitive material and the alkali-soluble resin containing a novolak resin, and methyl amyl ketone comprises a compound of formula (II) i-line (365nm) has a positive-type picture to be written reverse tapered shape formed by a profile and a good adhesion is excellent resolution properties of the resist composition.
公开/授权文献:
- KR100600639B1 포지티브 타입 포토레지스트 조성물 公开/授权日：2006-07-14