基本信息:
- 专利标题： 반사된 방사를 이용하여 기판 프로세싱을 모니터링하는 방법
- 专利标题（英）：Monitoring substrate processing using reflected radiation
- 专利标题（中）：반사된방사를이용하여기판프로세싱을모니터링하는방
- 申请号：KR1020037005580 申请日：2001-10-23
- 公开(公告)号：KR1020030066644A 公开(公告)日：2003-08-09
- 发明人： 쑤이지펑 , 산홍칭 , 요한손닐스 , 노어바크쉬하미드 , 관위 , 프룸코리오란 , 위안제 , 시에창린
- 申请人： 어플라이드 머티어리얼즈 인코포레이티드
- 申请人地址： 미합중국 캘리포니아주 ***** 산타 클라라 피.오.박스 ***A
- 专利权人： 어플라이드 머티어리얼즈 인코포레이티드
- 当前专利权人： 어플라이드 머티어리얼즈 인코포레이티드
- 当前专利权人地址： 미합중국 캘리포니아주 ***** 산타 클라라 피.오.박스 ***A
- 代理人： 특허법인코리아나
- 优先权： US09/695,577 2000-10-23; US09/803,080 2001-03-08
- 国际申请： PCT/US2001/049437 2001-10-23
- 国际公布： WO2002035586 2002-05-02
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00
摘要：
기판 프로세싱 장치는 기판을 프로세싱할 수 있는 챔버, 방사를 제공하는 방사 소스, 기판상에서 프로세싱되는 피쳐의 방위에 대하여 선택되는 하나 이상의 편광 각도로 방사를 편광시키도록 구성되는 방사 편광자, 프로세싱시에 기판으로부터 반사된 방사를 검출하여 신호를 생성하는 방사 검출기, 및 그 신호를 프로세싱하는 제어기를 구비한다.
摘要（中）：
衬底处理设备（27）具有能够处理衬底（20）的腔室（35），提供辐射的辐射源（58），适于使辐射偏振成选定的一个或多个偏振角的辐射偏振器 相对于在衬底上处理的特征的取向，在处理期间检测从衬底反射的辐射并产生信号的辐射检测器（54），以及处理该信号的控制器（100）。
摘要（英）：
The substrate processing apparatus from the substrate during the radiation polarizer, the processing is configured to polarize the radiation to one or more polarization angles that are selected with respect to the feature orientation that is processed on the radiation source, the substrate to provide a chamber, the radiation capable of processing a substrate and a radiation detector, and a controller for processing the signal to generate a signal by detecting the reflected radiation.
公开/授权文献:
- KR100927557B1 반사된 방사를 이용하여 기판 프로세싱을 모니터링하는 방법 公开/授权日：2009-11-23
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |