基本信息:
- 专利标题： 화학증폭형 양성 포토레지스트 제조용 중합체 및 이를 함유하는 포토레지스트 조성물
- 专利标题（英）：Chemically-amplified positive photoresist for producing polymers and photoresist compositions containing them
- 申请号：KR1019960045218 申请日：1996-10-11
- 公开(公告)号：KR1019980026687A 公开(公告)日：1998-07-15
- 发明人： 박주현 , 김성주 , 김지홍 , 김기대
- 申请人： 금호석유화학 주식회사
- 申请人地址： ***, Cheonggyecheon-ro, Jung-gu, Seoul
- 专利权人： 금호석유화학 주식회사
- 当前专利权人： 금호석유화학 주식회사
- 当前专利权人地址： ***, Cheonggyecheon-ro, Jung-gu, Seoul
- 代理人： 송재근
- 主分类号： C08F12/12
- IPC分类号： C08F12/12 ; G03C1/053
[화학식1]
상기 식에서 R
1 , R
2 및 R
3 는 각각 독립적으로 수소원자 또는 메틸기이고, R
4 는 수소원자, 알킬기 또는 알콕시기이고, R
5 , R
6 , 및 R
7 은 각각 독립적으로 수소원자, 메틸기, 에틸기, t-부틸기, 테트라히드로피란일기 또는 알콕시메틸렌기이고, j=1∼8, k=0∼8 까지의 정수이고, l, m 및 n은 각각 반복 단위를 나타내는 수로서, l+m+n은 1이다.
본 발명에서 제조된 레지스트는 원자외선, KrF 엑시머 레이저 등의 방사선에 대하여 고감도, 고해상성, 고내열성의 특징을 갖고 있다.
The present invention has the repeating units to provide a high sensitivity, high resolution and high chemical amplification type positive photoresist material of the heat-resistant polymer as a main component, and it is represented by the following general formula (I). Formula 1 Wherein R 1, R 2 and R 3 are a hydrogen atom or a methyl group independently, R 4 is a hydrogen atom, alkyl group or alkoxy group, R 5, R 6, and R 7 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, as a group, the number indicating the t- butyl group, a tetrahydropyran group, or an alkoxy methylene group, and, j = 1~8, an integer of up to k = 0~8, l, m and n repeat units, respectively, l + m + n is 1. A resist film prepared in the present invention has a feature of high sensitivity, high resolution, high heat resistance with respect to radiation such as deep-UV, KrF excimer laser.
公开/授权文献:
- KR100185321B1 화학증폭형 양성 포토레지스트 제조용 중합체 및 이를 함유하는 포토레지스트 조성물 公开/授权日：1999-05-15
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |
| ------C08F12/00 | 具有1个或更多的不饱和脂族基团化合物的均聚物或共聚物，每个不饱和脂族基团只有1个碳—碳双键，并且至少有1个是以芳香族碳环为终端 |
| --------C08F12/02 | .仅含1个不饱和脂族基的单体 |
| ----------C08F12/04 | ..含1个环 |
| ------------C08F12/06 | ...烃 |
| --------------C08F12/12 | ....含1个连接到环上的支化的不饱和脂族基团或烷基基团 |